[发明专利]光罩的夹持装置在审
申请号: | 202110414347.0 | 申请日: | 2021-04-16 |
公开(公告)号: | CN113126419A | 公开(公告)日: | 2021-07-16 |
发明(设计)人: | 赵晴晴 | 申请(专利权)人: | 长鑫存储技术有限公司 |
主分类号: | G03F1/00 | 分类号: | G03F1/00;G03F1/66 |
代理公司: | 广州华进联合专利商标代理有限公司 44224 | 代理人: | 周修文 |
地址: | 230601 安徽省合肥市*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 夹持 装置 | ||
1.一种光罩的夹持装置,其特征在于,所述光罩的夹持装置包括:
夹持组件与框体,所述夹持组件设置于所述框体上,所述夹持组件用于夹住光罩的侧边,所述框体的其中一框边的中部部位上设有连接部;
手柄,所述手柄与所述连接部转动相连,所述手柄上设有第一驱动机构,所述第一驱动机构与所述连接部相连,所述第一驱动机构用于带动所述连接部转动。
2.根据权利要求1所述的光罩的夹持装置,其特征在于,所述手柄设有中空室,所述第一驱动机构包括第一驱动轴、第一锥齿轮、第二驱动轴、第二锥齿轮与第一驱动齿轮;所述第一驱动轴转动地设置于所述手柄上,所述第一锥齿轮同轴地固定设置于所述第一驱动轴上、并位于所述中空室;所述第二驱动轴转动地连接于所述手柄上,所述第二驱动轴与所述连接部同轴相连;所述第二锥齿轮同轴地固定设置于所述第二驱动轴上、并位于所述中空室,所述第二锥齿轮与所述第一锥齿轮相啮合;所述第一驱动齿轮同轴固定地设置于所述第一驱动轴上。
3.根据权利要求1所述的光罩的夹持装置,其特征在于,所述第一驱动机构包括第二驱动轴与拨动轮;所述第二驱动轴转动地连接于所述手柄上,所述第二驱动轴与所述连接部同轴相连;所述拨动轮同轴地固定设置于所述第二驱动轴上。
4.根据权利要求1所述的光罩的夹持装置,其特征在于,所述手柄设有中空室,所述第一驱动机构包括设置于所述中空室中的微型电机,所述微型电机的转轴与所述连接部同轴固定相连。
5.根据权利要求4所述的光罩的夹持装置,其特征在于,所述第一驱动机构还包括设置于所述手柄上的控制元件,所述控制元件与所述微型电机电性连接。
6.根据权利要求5所述的光罩的夹持装置,其特征在于,所述控制元件为开关按钮或触控屏。
7.根据权利要求1所述的光罩的夹持装置,其特征在于,所述连接部设有导向杆;所述手柄上设有与所述连接部同轴设置的插槽;所述导向杆可转动地设置于所述插槽中,所述导向杆的外壁上螺旋地设置有导向槽;所述手柄上设有与所述插槽相连通的活动口;所述第一驱动机构包括沿着所述活动口移动设置的拨动件,所述拨动件的一端活动地设置于所述导向槽中,所述拨动件的另一端位于所述手柄的外壁面上。
8.根据权利要求1所述的光罩的夹持装置,其特征在于,所述夹持组件为至少两个;至少两个所述夹持组件间隔地设置于所述框体上。
9.根据权利要求8所述的光罩的夹持装置,其特征在于,所述夹持组件包括推拉杆、设置于所述推拉杆的外壁上的卡接件、以及与所述推拉杆的端部相连的夹持部;所述推拉杆可移动地设置于所述框边中部部位上,所述框边中部部位上设有与所述卡接件相应的卡接孔;当所述夹持部夹持所述光罩的侧边时,所述卡接件卡接固定于所述卡接孔中。
10.根据权利要求9所述的光罩的夹持装置,其特征在于,所述夹持组件为两个,两个所述夹持组件一一对应设置于所述框体的两个相对框边中部部位;所述推拉杆包括外套体以及套设于所述外套体内部的内轴体,所述外套体的内壁上设有花键轴,所述内轴体的外壁上设有与所述花键轴相适应的花键槽,所述花键轴沿着所述内轴体的轴向方向可移动地设置于所述花键槽中;所述外套体的外壁与所述卡接件相连,所述内轴体的端部与所述夹持部相连;所述外套体靠近于所述夹持部的端部内壁上设有第一抵触部,所述内轴体的外壁上设有与所述第一抵触部抵触配合的第二抵触部,所述第一抵触部用于带动所述第二抵触部朝向远离于所述光罩的方向移动;每个所述框边中部部位上设置的所述卡接孔为至少两个,至少两个所述卡接孔分布于所述推拉杆的两侧,所述卡接件能卡接固定于任意一个所述卡接孔中。
11.根据权利要求10所述的光罩的夹持装置,其特征在于,所述推拉杆上远离于所述夹持部的一端上设有扭动块。
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G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备