[发明专利]高硬度覆膜形成用涂布剂组合物在审
申请号: | 202110422063.6 | 申请日: | 2021-04-20 |
公开(公告)号: | CN113549398A | 公开(公告)日: | 2021-10-26 |
发明(设计)人: | 阿部晋士 | 申请(专利权)人: | 信越化学工业株式会社 |
主分类号: | C09D183/16 | 分类号: | C09D183/16;C09D7/20 |
代理公司: | 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 | 代理人: | 张晶;谢顺星 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 硬度 形成 用涂布剂 组合 | ||
本发明提供一种形成覆膜的聚硅氮烷能够溶解在安全性高的有机溶剂中,并能够形成高硬度且疏水性优异的覆膜的高硬度覆膜形成用涂布剂组合物。所述高硬度覆膜形成用涂布剂组合物的特征在于,含有:(A)具有下述式(1)所表示的重复单元及下述式(2)所表示的重复单元,且所述式(2)所表示的重复单元的数量相对于所述式(1)所表示的重复单元与所述式(2)所表示的重复单元的合计数量的比为0.2~0.5的聚硅氮烷;(B)闪点为21℃~55℃的脂肪族烃类溶剂;及(C)二丁醚,相对于所述(B)成分及所述(C)成分的掺合量的合计量,所述(C)成分的掺合量为0.1~20质量%。式中,R为选自碳原子数为1~6的脂肪族烃基、碳原子数为6~12的芳香族烃基、及碳原子数为1~6的烷氧基的基团。
技术领域
本发明涉及一种高硬度覆膜形成用涂布剂组合物。
背景技术
聚硅氮烷作为有机EL显示装置等半导体显示装置或电子显示器的防潮膜、以及半导体或LED等装置中的层间绝缘膜、钝化膜、保护膜、平坦化膜等的形成材料而被用于多种用途中。并且,正在研究灵活利用聚硅氮烷固化膜的透明性及硬度,而将其用作车身或建筑外壁等的涂布剂。
作为含有聚硅氮烷的涂布剂,专利文献1中公开了含有无机聚硅氮烷的组合物。然而,无机聚硅氮烷虽可形成致密的膜,但需要将甲苯或二甲苯等芳香族烃类溶剂作为溶剂,因此被指出对健康的有害性,可使用的场所受限。
因此,对提高了在有机溶剂中的溶解性且在侧链引入了有机基团的有机聚硅氮烷的研究得到推进(专利文献2)。然而,越增加有机基团的比例,越缺乏固化性,固化后的膜的强度也随之下降。
此外,若车身或建筑外壁残留水滴,则污垢沿着水滴而附着,因此对提高涂布表面疏水性的需求也在增加。
为了提高疏水性,专利文献3在聚硅氮烷类化合物中添加了两末端羧基改性硅酮。此外,专利文献4以全氟聚醚对聚硅氮烷的侧链进行了改性。然而,专利文献3及专利文献4的固化膜的强度发生了显著下降,并且从保护环境的角度考虑并不优选含氟化合物。
现有技术文献
专利文献
专利文献1:日本特开2011-142207号公报
专利文献2:国际公开2015/163360号
专利文献3:国际公开2016/121544号
专利文献4:日本特开2013-185038号公报
发明内容
本发明要解决的技术问题
本发明是为了解决上述问题而进行的,其目的在于提供一种形成覆膜的聚硅氮烷能够溶解在安全性高的有机溶剂中,并能够形成高硬度且疏水性优异的覆膜的高硬度覆膜形成用涂布剂组合物。
解决技术问题的技术手段
为了解决上述技术问题,本发明提供一种高硬度覆膜形成用涂布剂组合物,其特征在于,其含有:
(A)具有下述式(1)所表示的重复单元及下述式(2)所表示的重复单元,且所述式(2)所表示的重复单元的数量相对于所述式(1)所表示的重复单元与所述式(2)所表示的重复单元的合计数量的比为0.2~0.5的聚硅氮烷;
(B)闪点为21℃~55℃的脂肪族烃类溶剂;及
(C)二丁醚,
相对于所述(B)成分及所述(C)成分的掺合量的合计量,所述(C)成分的掺合量为0.1~20质量%。
式中,R为选自碳原子数为1~6的脂肪族烃基、碳原子数为6~12的芳香族烃基、及碳原子数为1~6的烷氧基的基团,一分子聚硅氮烷中的R任选相同或不同。
这样的高硬度覆膜形成用涂布剂组合物中,形成覆膜的聚硅氮烷能够溶解在安全性高的有机溶剂中,能够形成高硬度且疏水性优异的覆膜。
此外,所述式(2)中的R优选为甲基。
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