[发明专利]光响应性材料、粘接剂、光开关材料、调色剂以及图像形成方法在审

专利信息
申请号: 202110424280.9 申请日: 2021-04-20
公开(公告)号: CN113552782A 公开(公告)日: 2021-10-26
发明(设计)人: 中井优笑子;须釜宏二;堀口治男;芝田豊子;早田裕文 申请(专利权)人: 柯尼卡美能达株式会社
主分类号: G03G9/08 分类号: G03G9/08
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 张涛
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 响应 材料 粘接剂 开关 调色 以及 图像 形成 方法
【权利要求书】:

1.一种组合物,其包含异构化聚合物及异构化低分子化合物,所述异构化聚合物含有具有异构化结构体的结构单元,所述组合物通过光照射从固体状态发生流体化,并可逆地发生非流体化。

2.如权利要求1所述的组合物,其中,所述异构化聚合物是含有来自偶氮苯衍生物的结构单元或来自甲亚胺衍生物的结构单元的聚合物,所述异构化低分子化合物是偶氮苯化合物或甲亚胺化合物。

3.如权利要求2所述的组合物,其中,所述偶氮苯衍生物或所述甲亚胺衍生物含有在氮-氮双键或碳-氮双键的对位上具有与高分子主链连接的连接部分的亚苯基,

所述偶氮苯化合物或所述甲亚胺化合物含有在氮-氮双键或碳-氮双键的对位上具有碳原子数为1~18的烷基或碳原子数为1~18的烷氧基的苯基。

4.如权利要求1~3中任一项所述的组合物,其中,所述异构化聚合物与所述异构化低分子化合物的混合比以质量比计为异构化聚合物:异构化低分子化合物=99:1~10:90。

5.如权利要求1~4中任一项所述的组合物,其中,所述光的波长为280nm以上且480nm以下。

6.一种调色剂,其含有权利要求1~5中任一项所述的组合物。

7.如权利要求6所述的调色剂,其进一步含有粘接树脂。

8.如权利要求7所述的调色剂,其中,所述粘接树脂含有选自苯乙烯丙烯酸树脂及聚酯树脂中的至少一种。

9.一种图像形成方法,其包括:

在记录介质上形成由权利要求6~8中任一项所述的调色剂形成的调色剂图像的工序;

以及对所述调色剂图像照射光而使所述调色剂图像软化的工序。

10.如权利要求9所述的图像形成方法,其中,所述光的波长为280nm以上且480nm以下。

11.如权利要求9或10所述的图像形成方法,其进一步包含对所述调色剂图像加压的工序。

12.如权利要求11所述的图像形成方法,其中,在所述加压工序中,进一步加热所述调色剂图像。

13.如权利要求9~12中任一项所述的图像形成方法,其中,对所述调色剂图像照射光而使所述调色剂图像软化的工序中,进行光照射并加热所述调色剂图像。

14.一种光响应性粘接剂,其含有权利要求1~5中任一项所述的组合物。

15.一种光开关材料,其含有权利要求1~5中任一项所述的组合物。

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