[发明专利]一种铜、钛叠层金属蚀刻液及制备方法和实时净化系统

权利要求书

1.一种铜、钛叠层金属蚀刻液，其特征在于：包括主剂和辅剂。

2.根据权利要求1所述的铜、钛叠层金属蚀刻液，其特征在于：所述主剂原料包含以下质量百分比：过氧化物1～20％，氟源0.01～0.5％，无机酸0.1～10％，胺化物1～30％，稳定剂0.01～1％，氮唑类化合物0.01～0.5％，水余量。

3.根据权利要求1所述的铜、钛叠层金属蚀刻液，其特征在于：所述辅剂原料包含以下质量百分比：氟源0.1～5％，无机酸1～15％，胺化物10～40％，氮唑类化合物0.1～5％，水余量。

4.根据权利要求2或3所述的铜、钛叠层金属蚀刻液，其特征在于：所述过氧化物为过氧化氢。

5.根据权利要求2或3所述的铜、钛叠层金属蚀刻液，其特征在于：所述氟源为氢氟酸、氟化氨、氟化氢铵中的至少一种。

6.根据权利要求2或3所述的铜、钛叠层金属蚀刻液，其特征在于：所述无机酸为硝酸、硫酸、盐酸中的至少一种。

7.根据权利要求2所述的铜、钛叠层金属蚀刻液，其特征在于：所述主剂中所述氟源与氮唑类化合物的质量比为2～7：1。

8.根据权利要求1所述的铜、钛叠层金属蚀刻液，其特征在于：所述辅剂与主剂的用量比为0.4～0.5wt％/每500ppm金属离子浓度。

9.一种根据权利要求1～8任意一项所述的铜、钛叠层金属蚀刻液的制备方法，其特征在于：将主剂和辅剂所需原料放置进搅拌器中，搅拌50～100分钟，搅拌温度为30～45℃，搅拌完成后既得所述蚀刻液的主剂和辅剂。

10.一种根据权利要求1～8任意一项所述的铜、钛叠层金属蚀刻液的实时净化系统，其特征在于：所述实时净化系统的结构包括：储液罐(1)，输送泵(2)，树脂柱(3)，输送管道(4)，阀门(5)，法兰(6)；所述储液罐(1)，输送泵(2)，树脂柱(3)阀门(5)，法兰(6)通过输送管道(4)机械连接。