[发明专利]喷嘴单元、液处理装置以及液处理方法

说明书

本发明提供喷嘴单元、液处理装置以及液处理方法。使基板面内的温度分布的均匀性提高。本公开的一技术方案所涉及的喷嘴单元是一种对基板施加使用了溶液的液处理的液处理装置用的单元。该喷嘴单元包括气体喷嘴，该气体喷嘴具有：喷出流路，其供气体流通；以及喷出口，其将在喷出流路流动的气体朝向基板的表面喷出。喷出口形成为在沿着表面的第1方向上延伸。喷出流路的第1方向上的宽度随着靠近喷出口而变大，以使来自喷出口的气体呈放射状喷出。

技术领域

本公开涉及喷嘴单元、液处理装置以及液处理方法。

背景技术

专利文献1公开了一种构成为通过向基板的表面供给显影液从而使形成于基板的表面的抗蚀膜显影的显影装置。该显影装置包括：鼓风机，其将调整到规定温度的空气自上方向基板吹送；以及温度调整器，其利用调整到规定温度的调温水的循环而将卡盘装置和显影液供给管维持为规定温度。

专利文献1：日本特开2004－274028号公报

发明内容

发明要解决的问题

本公开提供能够使基板面内的温度分布的均匀性提高的喷嘴单元和液处理装置。

用于解决问题的方案

本公开的一技术方案所涉及的喷嘴单元是一种对基板施加使用了溶液的液处理的液处理装置用的单元。该喷嘴单元包括气体喷嘴，该气体喷嘴具有：喷出流路，其供气体流通；以及喷出口，其将在喷出流路流动的气体朝向基板的表面喷出。喷出口形成为在沿着表面的第1方向上延伸。喷出流路的第1方向上的宽度随着靠近喷出口而变大，以使来自喷出口的气体呈放射状喷出。

对于上述喷嘴单元，也可以是，所述气体喷嘴构成为，所述喷出口中的所述第1方向上的两端部各自在从所述第1方向观察时可见。

对于上述喷嘴单元，也可以是，所述喷出口的包含开口缘的面的所述第1方向上的中央部分朝向所述表面突出。

对于上述喷嘴单元，也可以是，该喷嘴单元还包括：第2气体喷嘴，其具有第2喷出口，该第2喷出口朝向所述表面喷出第2气体；以及驱动部，其沿着所述表面使所述气体喷嘴和所述第2气体喷嘴一起移动。

对于上述喷嘴单元，也可以是，自所述喷出口喷出的所述气体的流速小于自所述第2喷出口喷出的所述第2气体的流速。

对于上述喷嘴单元，也可以是，该喷嘴单元还包括处理液喷嘴，该处理液喷嘴具有第3喷出口，该第3喷出口朝向所述表面喷出处理液，所述驱动部使所述气体喷嘴、所述第2气体喷嘴以及所述处理液喷嘴一起移动。

对于上述喷嘴单元，也可以是，在与所述第1方向正交且沿着所述表面的第2方向上，所述气体喷嘴和所述处理液喷嘴配置于互不相同的位置，所述气体喷嘴和所述处理液喷嘴构成为，来自所述气体喷嘴的所述气体在所述表面处的到达位置与来自所述处理液喷嘴的所述处理液在所述表面处的到达位置之间的所述第2方向上的距离小于所述喷出口与所述第3喷出口之间的所述第2方向上的距离。

对于上述喷嘴单元，也可以是，在所述第2方向上，所述第2气体喷嘴和所述处理液喷嘴配置于互不相同的位置，所述第2气体喷嘴和所述处理液喷嘴构成为，从所述第1方向观察时，来自所述处理液喷嘴的所述处理液的喷出方向相对于所述表面的倾斜小于来自所述第2气体喷嘴的所述第2气体的喷出方向相对于所述表面的倾斜。

对于上述喷嘴单元，也可以是，在所述第2方向上，所述气体喷嘴、所述第2气体喷嘴以及所述处理液喷嘴按所述气体喷嘴、所述第2气体喷嘴、所述处理液喷嘴的顺序配置。