[发明专利]一种考虑统计修正的荧光染色薄膜厚度测量标定方法

权利要求书

1.一种考虑统计修正的荧光染色薄膜厚度测量标定方法，其特征在于，以若干不同标准厚度薄膜的荧光照片作为样本，使用分组平均拟合法或最小二乘法，建立的薄膜厚度与荧光强度之间的关系式，构建标定系数方程组并求解，得到标定系数表；对于待测厚度薄膜的荧光照片，基于标定系数表以及薄膜厚度与荧光强度之间的关系式，计算得到每个像素单元对应的厚度；

使用分组平均拟合法时，使用的荧光强度的基函数为：

建立的薄膜厚度与荧光强度之间的关系式为：

其中，i、j分别为像素单元所在行和列的编号；n为基函数的阶次；N为基函数的总阶数；k为图片编号，k＝1.2.3…K，K为图片总数，要求K＝N+1；为第m组第k张图片的第i行、第j列像素单元对应的薄膜厚度；为第m组第k张图片的第i行、第j列像素单元对应的第n阶基函数项，其为以第m组第k张图片的荧光强度_g^(k,m)为自变量的函数；为第m组图片的第i行、第j列像素单元对应的第n阶标定系数；

构建标定系数线性方程组如下：

求解标定系数线性方程组后，对各个样本组得到的标定系数计算均值如下：

得到所有像素单元的标定系数数组，得到标定系数表；

其中，M为总组数，为计算均值后得到的第i行、第j列像素单元对应的第n阶标定系数；

待测像素单元的薄膜厚度计算方式为：

其中，为待测图片的第i行、第j列像素单元对应的第n阶基函数项，_hi,j为待测图片的第i行、第j列像素单元对应的薄膜厚度；

使用最小二乘法进行非线性拟合时，建立的薄膜厚度与荧光强度之间的关系式为：

构建最小二乘法标定系数线性方程组为：

其中，i、j分别为像素单元所在行和列的编号；n为基函数的阶次；N为考虑使用的基函数的总阶数；k为图片编号；k＝1.2.3…K，K为图片总数，要求KN；为第k张图片的第i行、第j列像素单元对应的薄膜厚度；为第k张图片的第i行、第j列像素单元对应的荧光强度；为第i行、第j列像素单元对应的第n阶标定系数。