[发明专利]考虑荧光成像区域的荧光染色薄膜厚度测量标定方法

权利要求书

1.一种考虑荧光成像区域的荧光染色薄膜厚度测量标定方法，其特征在于，包括如下步骤：

步骤S1:给定需要考虑的荧光成像区域的阶数N；

步骤S2:拍摄不同标准厚度薄膜的荧光照片，总数为K，要求K＝N+1；

步骤S3:对某一像素单元，建立初始的薄膜厚度与荧光强度之间的关系式：

简化相同荧光成像区域阶次项之和，得到所述薄膜厚度与荧光强度之间的关系式：

其中，i、j分别为像素单元所在行和列的编号；n为荧光成像区域阶次编号；N为荧光成像区域的总阶数；k为图片编号，k＝1.2.3…K；K为图片总数，要求K＝N+1；为第k张图片的第i行、第j列像素单元对应的薄膜厚度；为第k张图片的第i行、第j列像素单元对应的n阶像素单元的荧光强度之和；为第i行、第j列像素单元对应的n阶标定系数；

据此构建标定系数线性方程组：

步骤S4:求解标定系数线性方程组，得到标定系数数组；

步骤S5:对所有像素单元执行步骤S3-步骤S4，得到标定系数表；

步骤S6:使用同一光学系统，拍摄待测薄膜的荧光照片；拍摄薄膜的荧光照片时要对焦到薄膜基准面；

步骤S7:使用步骤S5得到的标定系数表，根据薄膜厚度与荧光强度之间的关系式，计算每一像素单元对应的薄膜厚度，完成标定；薄膜厚度与荧光强度之间的关系式如下：

其中，为待测图片的第i行、第j列像素单元对应的n阶像素单元的荧光强度之和，_hi,j为待测图片的第i行、第j列像素单元对应的薄膜厚度。