[发明专利]一种异质结材料及其应用有效
申请号: | 202110437540.6 | 申请日: | 2021-04-22 |
公开(公告)号: | CN113206159B | 公开(公告)日: | 2023-05-26 |
发明(设计)人: | 曾祥斌;王曦雅;胡一说;王文照;陆晶晶;王君豪;肖永红;周宇飞;王士博;陈铎;张茂发 | 申请(专利权)人: | 华中科技大学 |
主分类号: | H01L31/032 | 分类号: | H01L31/032;H01L31/0216;H01L31/102;H01L31/18 |
代理公司: | 华中科技大学专利中心 42201 | 代理人: | 尹丽媛;李智 |
地址: | 430074 湖北*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 异质结 材料 及其 应用 | ||
1.一种光电探测器的制备方法,其特征在于,包括:
将硒化钼前驱体溶液旋涂至衬底上,用激光器照射所述衬底上的前驱体溶液得到硒化钼薄膜;
在硒化钼薄膜表面电子束蒸发第一钝化层,并光刻出硫化铅区域,利用磁控溅射淀积硫化铅薄膜,得到硒化钼-硫化铅异质结,该异质结包括依次层叠设置的硒化钼薄膜、第一钝化层和硫化铅薄膜;其中,第一钝化层材料的功函数和能带位置与硒化钼薄膜和硫化铅薄膜材料匹配,降低界面缺陷态密度;
光刻出第二钝化层区域,电子束蒸发第二钝化层的材料,光刻出电极图案,电子束蒸发金属电极,得到异质结光电探测器;所述光电探测器包括:所述衬底、所述异质结、所述第二钝化层和所述电极;其中,所述异质结中的硒化钼薄膜层叠在所述衬底上表面;所述第二钝化层在硫化铅薄膜上表面;分别在所述第一钝化层上表面和所述第二钝化层上表面设置有所述金属电极;
所述第一钝化层的材料为Al2O3。
2.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述硒化钼薄膜的长度范围为1cm~3cm、宽度范围为5mm~20mm、薄膜厚度范围为5nm~15nm。
3.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述硫化铅薄膜的厚度范围为50nm~300nm,所述异质结的长度范围为5mm~30mm、宽度范围为1mm~10mm,所述第一钝化层的厚度为3nm~5nm。
4.一种光电探测器,其特征在于,采用如权利要求1至3任一项所述的一种光电探测器的制备方法制备得到。
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H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
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H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的