[发明专利]一种异质结材料及其应用有效

专利信息
申请号: 202110437540.6 申请日: 2021-04-22
公开(公告)号: CN113206159B 公开(公告)日: 2023-05-26
发明(设计)人: 曾祥斌;王曦雅;胡一说;王文照;陆晶晶;王君豪;肖永红;周宇飞;王士博;陈铎;张茂发 申请(专利权)人: 华中科技大学
主分类号: H01L31/032 分类号: H01L31/032;H01L31/0216;H01L31/102;H01L31/18
代理公司: 华中科技大学专利中心 42201 代理人: 尹丽媛;李智
地址: 430074 湖北*** 国省代码: 湖北;42
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 异质结 材料 及其 应用
【权利要求书】:

1.一种光电探测器的制备方法,其特征在于,包括:

将硒化钼前驱体溶液旋涂至衬底上,用激光器照射所述衬底上的前驱体溶液得到硒化钼薄膜;

在硒化钼薄膜表面电子束蒸发第一钝化层,并光刻出硫化铅区域,利用磁控溅射淀积硫化铅薄膜,得到硒化钼-硫化铅异质结,该异质结包括依次层叠设置的硒化钼薄膜、第一钝化层和硫化铅薄膜;其中,第一钝化层材料的功函数和能带位置与硒化钼薄膜和硫化铅薄膜材料匹配,降低界面缺陷态密度;

光刻出第二钝化层区域,电子束蒸发第二钝化层的材料,光刻出电极图案,电子束蒸发金属电极,得到异质结光电探测器;所述光电探测器包括:所述衬底、所述异质结、所述第二钝化层和所述电极;其中,所述异质结中的硒化钼薄膜层叠在所述衬底上表面;所述第二钝化层在硫化铅薄膜上表面;分别在所述第一钝化层上表面和所述第二钝化层上表面设置有所述金属电极;

所述第一钝化层的材料为Al2O3

2.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述硒化钼薄膜的长度范围为1cm~3cm、宽度范围为5mm~20mm、薄膜厚度范围为5nm~15nm。

3.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述硫化铅薄膜的厚度范围为50nm~300nm,所述异质结的长度范围为5mm~30mm、宽度范围为1mm~10mm,所述第一钝化层的厚度为3nm~5nm。

4.一种光电探测器,其特征在于,采用如权利要求1至3任一项所述的一种光电探测器的制备方法制备得到。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于华中科技大学,未经华中科技大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202110437540.6/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top