[发明专利]一种电容器用串联双断口真空断路器控制方法及装置在审
申请号: | 202110437787.8 | 申请日: | 2021-04-22 |
公开(公告)号: | CN113178353A | 公开(公告)日: | 2021-07-27 |
发明(设计)人: | 彭晶;邓云坤;王科;谭向宇;马仪;赵现平;李昊;刘红文;彭兆裕 | 申请(专利权)人: | 云南电网有限责任公司电力科学研究院 |
主分类号: | H01H33/666 | 分类号: | H01H33/666;H01H33/66 |
代理公司: | 北京弘权知识产权代理有限公司 11363 | 代理人: | 逯长明;许伟群 |
地址: | 650217 云南省昆*** | 国省代码: | 云南;53 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 电容 器用 串联 断口 真空 断路器 控制 方法 装置 | ||
1.一种电容器用串联双断口真空断路器控制方法,其步骤如下:
使用控制电闸,应用非同步开合方法控制两个真空灭弧室,所述使用方法包括:
闭合控制电闸,控制真空灭弧室VI1先动作,使真空灭弧室VI2的触头承受高频涌流的烧蚀;
打开控制电闸,控制真空灭弧室VI1先动作,开断短路故障电流。
2.根据权利要求1所述的一种电容器用串联双断口真空断路器控制方法,其特征在于,所述真空断路器控制方法的动作时序特征包括:
闭合控制电闸,进行关合操作,两个串联真空断口的合闸时间存在一个时间间隔ΔTc;
真空灭弧室VI1在T1时刻合闸,真空灭弧室VI2在T2时刻关合;
真空灭弧室VI1实现无电流关合,高频涌流预击穿电弧只在真空灭弧室VI2上产生,只有真空灭弧室VI2内的触头表面被破坏;
所述时间间隔ΔTc长于真空灭弧室VI1的关合时间,真空灭弧室VI1的触头表面不受涌流电弧烧蚀。
3.根据权利要求1所述的一种电容器用串联双断口真空断路器控制方法,其特征在于,所述真空断路器控制方法的动作时序特征还包括:
打开控制电闸,进行分闸操作,两个串联真空断口的合闸时间也存在一个时间间隔ΔTo;
真空灭弧室VI1在T3时刻分闸,真空灭弧室VI2在T4时刻分闸;
所述时间间隔ΔTo小于真空灭弧室VI1的燃弧时间;
开断瞬间产生数百安培的电弧电流老炼真空灭弧室VI2的触头,消除高频涌流电弧烧蚀对触头表面的破坏,提高其断口绝缘强度。
4.一种电容器用串联双断口真空断路器,其特征在于,包括两个真空灭弧室,真空灭弧室VI1被配置为开断短路故障电流,真空灭弧室VI2被配置为关合高频涌流。
5.根据权利要求4所述的一种电容器用串联双断口真空断路器,其特征在于,所述真空灭弧室VI1内触头的材料是CuCr合金,所述真空灭弧室VI2内触头的材料是CuW合金。
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