[发明专利]一种民航应用高透光率的抗干扰型电阻触摸屏及制作方法

权利要求书

1.一种民航应用高透光率的抗干扰型电阻触摸屏的制作方法，其特征在于，制作方法包括：

S1、在真空环境下，将ITO导电高透玻璃的非ITO面和高透白玻璃通过光学胶贴合固定，贴合过程中ITO导电高透玻璃和高透白玻璃处于加热环境，对ITO导电高透玻璃和高透白玻璃的两侧进行持续加压；

S2、针对贴合后S1得到的半成品的贴合面存在的微小的气泡进行消泡处理；

S3、将S2得到的半成品置于光照下1～2min，使光学胶固化；

S4、对S3得到的半成品进行FPC压合，通过压合机将ACF材料、FPC材料压合在ITO导电高透玻璃的表面；

S5、通过双面胶将S4得到的半成品中ITO导电高透玻璃的ITO面与ITO导电高透膜的ITO面进行贴合；

S6、将S5得到的半成品的四周边缘贴上导电铜箔进行包裹；

S7、再在S6中半成品的导电铜箔上贴一层导电双面胶；

S8、将S7中半成品的导电双面胶与客户机壳粘贴固定，通过导电层将电磁干扰引出。

2.根据权利要求1所述的民航应用高透光率的抗干扰型电阻触摸屏的制作方法，其特征在于，所述S1中的加热的温度范围为30～60℃。

3.根据权利要求1所述的民航应用高透光率的抗干扰型电阻触摸屏的制作方法，其特征在于，所述S1中持续加压的重量为1～4Kg。

4.根据权利要求1所述的民航应用高透光率的抗干扰型电阻触摸屏的制作方法，其特征在于，所述S1中的ITO导电高透玻璃是通过在高透白玻璃的表面镀上一层ITO膜制成。

5.根据权利要求2所述的民航应用高透光率的抗干扰型电阻触摸屏的制作方法，其特征在于，所述高透白玻璃为超透明玻璃材料制成。

6.根据权利要求1所述的民航应用高透光率的抗干扰型电阻触摸屏的制作方法，其特征在于，所述S2中消泡处理采用消泡机进行，所述微小的气泡直径≤0.1mm。

7.根据权利要求1所述的民航应用高透光率的抗干扰型电阻触摸屏的制作方法，其特征在于，所述S3中的光照为蓝光、紫外光、太阳光或白炽灯光。

8.一种民航应用高透光率的抗干扰型电阻触摸屏，由权利要求1-7任一所述的制作方法制成，其特征在于，包括ITO导电高透膜、双面胶、ITO导电高透玻璃、光学胶、高透白玻璃、铜箔和导电双面胶，所述ITO导电高透玻璃和高透白玻璃之间通过光学胶连接，所述ITO导电高透玻璃的顶部边缘贴覆一圈双面胶，所述ITO导电高透膜的底部边缘贴覆在双面胶上，所述ITO导电高透膜和ITO导电高透玻璃之间填充有作为支撑点的多个凸起，所述铜箔包裹在从最顶层的ITO导电高透膜至最底层的高透白玻璃的边缘处，所述导电双面胶粘贴在铜箔的顶部。