[发明专利]作为除草剂的新型的4-氨基吡啶和6-氨基嘧啶羧酸酯在审

专利信息
申请号: 202110442807.0 申请日: 2014-03-12
公开(公告)号: CN113292502A 公开(公告)日: 2021-08-24
发明(设计)人: J·D·埃克尔巴杰;J·B·埃普;L·G·费希尔;N·C·詹彼得罗;J·基斯特;J·佩特库斯;J·罗思;N·M·萨奇维;P·R·施米策;T·L·西多尔;C·N·耶基斯 申请(专利权)人: 美国陶氏益农公司
主分类号: C07D239/34 分类号: C07D239/34;C07D213/79;C07D213/803;C07D239/47;C07D401/04;C07F7/08;A01N43/40;A01N43/54;A01P13/00
代理公司: 北京坤瑞律师事务所 11494 代理人: 封新琴
地址: 美国印*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 作为 除草剂 新型 氨基 吡啶 嘧啶 羧酸
【权利要求书】:

1.式(I)化合物:

其中

X为N或CY,其中Y为氢、卤素、C1-C3烷基、C1-C3卤代烷基、C1-C3烷氧基、C1-C3卤代烷氧基、C1-C3烷基硫基或C1-C3卤代烷基硫基;

R1为OR1′,其中R1′为H、C1-C8烷基或C7-C10芳基烷基;

R2为卤素、C1-C4烷基、C1-C4卤代烷基、C2-C4烯基、C2-C4卤代烯基、C2-C4炔基、C2-C4卤代炔基、C1-C4烷氧基、C1-C4卤代烷氧基、C1-C4烷基硫基、C1-C4卤代烷基硫基、氨基、C1-C4烷基氨基、C2-C4卤代烷基氨基、甲酰基、(C1-C3烷基)羰基、(C1-C3卤代烷基)羰基、氰基或式-CR17=CR18-SiR19R20R21的基团,其中R17为氢、F或Cl;R18为氢、F、Cl、C1-C4烷基或C1-C4卤代烷基;且R19、R20和R21各自独立地为C1-C10烷基、C3-C6环烷基、C1-C10卤代烷基、C3-C6卤代环烷基、苯基、取代的苯基、C1-C10烷氧基或OH;

R3和R4独立地为氢、C1-C6烷基、C1-C6卤代烷基、C3-C6烯基、C3-C6卤代烯基、C3-C6炔基、C3-C6卤代炔基、羟基、C1-C6烷氧基、C1-C6卤代烷氧基、甲酰基、(C1-C3烷基)羰基、(C1-C3卤代烷基)羰基、(C1-C6烷氧基)羰基、(C1-C6烷基)氨基甲酰基、(C1-C6烷基)磺酰基、三(C1-C6烷基)甲硅烷基、二(C1-C6烷基)磷酰基、或者R3和R4与它们所连接的氮原子一起形成5-或6-元饱和环,或者R3和R4一起表示=CR3′R4′,其中R3′和R4′独立地为氢、C1-C6烷基、C3-C6烯基、C3-C6炔基、C1-C6烷氧基或C1-C6烷基氨基、或R3′和R4′与它们所连接的碳原子一起形成5-或6-元饱和环;

Ar选自Ar1、Ar2、Ar3、Ar4、Ar5和Ar6

其中

W1为F;

W2为氢或F;

W3为Cl、Br、I、C1-C4烷基、C1-C4卤代烷基、C2-C4烯基、C2-C4卤代烯基、C2-C4炔基、C2-C4卤代炔基、C1-C4烷氧基、C1-C4卤代烷氧基、C1-C4烷基硫基、或C1-C4卤代烷基硫基;

X1为H、F、Cl、Br、I、C1-C4烷基、C1-C4卤代烷基、环丙基、卤代环丙基、C1-C4烷氧基、或C1-C4卤代烷氧基;

X2为H、F、Cl、Br、I、C1-C4烷基、C1-C4卤代烷基、环丙基、卤代环丙基、C2-C4烯基、C2-C4卤代烯基、C2-C4炔基、C2-C4卤代炔基、C1-C4烷氧基、C1-C4卤代烷氧基、CN、CONH2、CO2H或NO2

X3为F、Cl、Br、I、C1-C4烷基、C1-C4卤代烷基、环丙基、卤代环丙基、C2-C4烯基、C2-C4卤代烯基、C2-C4炔基、C2-C4卤代炔基、C1-C4烷氧基、C1-C4卤代烷氧基、CN、CONH2、CO2H或NO2

Y1为卤素、C1-C4烷基、C1-C4卤代烷基、C2-C4烯基、C2-C4卤代烯基、C2-C4炔基、C2-C4卤代炔基、C1-C4烷氧基、C1-C4卤代烷氧基、C1-C4烷基硫基、C1-C4卤代烷基硫基、氨基、C1-C4烷基氨基、C1-C4卤代烷基氨基、(C1-C6烷氧基)-取代的C1-C6烷基、CN或NO2

Y2为氢或F;

Z1为卤素、C1-C4烷基、C1-C4卤代烷基、环丙基、C2-C4烯基、C2-C4卤代烯基、C2-C4炔基、C2-C4卤代炔基、C1-C4烷氧基、C1-C4卤代烷氧基、C1-C4烷基硫基、或C1-C4卤代烷基硫基;

Z2为氢、卤素、C1-C4烷基、C1-C4卤代烷基、环丙基、C2-C4烯基、C2-C4卤代烯基、C2-C4炔基、C2-C4卤代炔基、C1-C4烷氧基、C1-C4卤代烷氧基、C1-C4烷基硫基、或C1-C4卤代烷基硫基;

Z3为Cl、Br、I、C1-C4烷基、C1-C4卤代烷基、环丙基、C2-C4烯基、C2-C4卤代烯基、C2-C4炔基、C2-C4卤代炔基、C1-C4烷氧基、C1-C4卤代烷氧基、C1-C4烷基硫基、或C1-C4卤代烷基硫基;

Z4为C1-C4烷基、C1-C4卤代烷基、环丙基、C2-C4烯基、C2-C4卤代烯基、C2-C4炔基、C2-C4卤代炔基、C1-C4烷氧基、C1-C4卤代烷氧基、C1-C4烷基硫基、或C1-C4卤代烷基硫基;和

其中当Ar为:

g)

则X为N、CH、CF、CCl或CCH3

条件是:

v)当R2为Cl或乙烯基且X为N时,X1不为氢、F、Cl和OCH3

vi)当R2为Cl且X为CH时,X1不为氢、Cl和OCH3

vii)当R2为Cl且X为CF时,X1不为Cl;和

viii)当R2为OCH3且X为CF时,X1不为CF3、环丙基和OCH3

h)

则X为N、CH、或CF;

条件是当R2为Cl且X为N时,X1不为氢、CH3和OCH3

i)

则X为N、CH、或CF;

j)

则X为N、CH、或CF;

k)

则X为N、CH、或CF;和

l)

则X为N、CH、或CF;

条件是当Y2为氢时,W3不为Cl、CH3、CF3和OCH3

或其N-氧化物或农用盐。

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