[发明专利]长寿命微柱阵列石墨和金属的复合阴极结构及其制备方法有效

专利信息
申请号: 202110443718.8 申请日: 2021-04-23
公开(公告)号: CN113097032B 公开(公告)日: 2023-10-20
发明(设计)人: 程军;刘文元;柯昌凤;霍艳坤;陈昌华;孙钧;张贝 申请(专利权)人: 西北核技术研究所
主分类号: H01J23/04 分类号: H01J23/04;H01J25/46
代理公司: 西安智邦专利商标代理有限公司 61211 代理人: 王杨洋
地址: 710024 陕*** 国省代码: 陕西;61
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 寿命 阵列 石墨 金属 复合 阴极 结构 及其 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种长寿命微柱阵列石墨和金属的复合阴极结构,包括微柱阵列石墨阴极,该微柱阵列石墨阴极包括刀口状环形石墨阴极基体,以及阵列式设置于刀口状环形石墨阴极基体刀口处表面的多个石墨微柱;其特征在于:

所述刀口状环形石墨阴极基体的表面以及各个石墨微柱的顶端和侧壁都均匀粘附有金属涂层,所述金属涂层采用难熔金属。

2.根据权利要求1所述的长寿命微柱阵列石墨和金属的复合阴极结构,其特征在于:

所述金属涂层的厚度在0.01~50μm范围内。

3.根据权利要求2所述的长寿命微柱阵列石墨和金属的复合阴极结构,其特征在于:

所述金属涂层的厚度在1~10μm范围内。

4.根据权利要求1至3所述的长寿命微柱阵列石墨和金属的复合阴极结构,其特征在于:

所述金属涂层的材料为Mo、W、Hf、Ta、Zr、Ti、Cr、V中的一种或多种。

5.根据权利要求4所述的长寿命微柱阵列石墨和金属的复合阴极结构,其特征在于:

所述石墨微柱的直径为5μm~300μm,高度与直径的比为1:1~20:1,相邻石墨微柱轴线的距离为20μm~500μm。

6.根据权利要求5所述的长寿命微柱阵列石墨和金属的复合阴极结构,其特征在于:

所述微柱阵列石墨阴极上的石墨微柱阵列由紫外激光刻蚀刀口状环形石墨阴极基体的刀口处表面得到。

7.一种长寿命微柱阵列石墨和金属的复合阴极结构制备方法,其特征在于,包括以下步骤:

1)将石墨加工成刀口状环形石墨阴极基体,将其清洗并烘干;

2)通过紫外激光刻蚀方式,在烘干后的刀口状环形石墨阴极基体刀口处表面构筑石墨微柱阵列,得到微柱阵列石墨阴极,将其清洗并烘干;

3)将烘干后的微柱阵列石墨阴极极置于化学气相沉积炉中,以恒定升温速率将炉膛温度升至300~1200℃;

4)向化学气相沉积炉的炉膛内通入氢气作为还原性气体,将炉膛压力保持在0.1~20kPa;

5)将难熔金属的金属化合物加热至完全气化,并以恒定流速通入炉膛,进行还原反应0.5~10h;

6)停止通入氢气,自然降温后,得到长寿命微柱阵列石墨和金属的复合阴极结构。

8.根据权利要求5所述的长寿命微柱阵列石墨和金属的复合阴极结构制备方法,其特征在于:

步骤3)中,所述升温速率为5~10℃/min;

将炉膛温度升至500~800℃。

9.根据权利要求7所述的长寿命微柱阵列石墨和金属的复合阴极结构制备方法,其特征在于:

步骤5)中,所述金属化合物为金属氯化物;

所述金属化合物中的金属为Mo、W、Hf、Ta、Zr、Ti、Cr、V中的一种或多种。

10.根据权利要求9所述的长寿命微柱阵列石墨和金属的复合阴极结构制备方法,其特征在于:

步骤5)中,所述还原反应的时长为2~5h。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于西北核技术研究所,未经西北核技术研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202110443718.8/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top