[发明专利]一种高稳定的CMP抛光液有效
| 申请号： | 202110444766.9 | 申请日： | 2021-04-24 |
| 公开（公告）号： | CN113214741B | 公开（公告）日： | 2022-03-11 |
| 发明（设计）人： | 王继宝;周翠苹 | 申请（专利权）人： | 深圳市撒比斯科技有限公司 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02;H01L21/306 |
| 代理公司： | 北京维正专利代理有限公司 11508 | 代理人： | 魏坤宇 |
| 地址： | 518000 广东省深圳市宝安区西*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 稳定 cmp 抛光 | ||
【权利要求书】：
1.一种高稳定的CMP抛光液，其特征在于，每100重量份的抛光液中包括磨料20-50份、pH调节剂0.3-8份、聚醚多元醇2-5份、羟基丁酸0.005-0.008份、表面活性剂0.01-0.15份、余量为水；
所述磨料为硅溶胶和二氧化钛水溶胶的混合物，硅溶胶和二氧化钛水溶胶的重量比为1：(0.05-0.15)；
pH调节剂为氢氧化钠和二甲基乙酰胺的混合物，氢氧化钠和二甲基乙酰胺的重量比为1：(0.8-1)。
2.根据权利要求1所述的一种高稳定的CMP抛光液，其特征在于：所述聚醚多元醇的平均分子量为700-2000。
3.根据权利要求1所述的一种高稳定的CMP抛光液，其特征在于：所述表面活性剂为阴离子型表面活性剂。
4.根据权利要求3所述的一种高稳定的CMP抛光液，其特征在于：所述表面活性剂为阴离子聚丙烯酰胺和烷基苯磺酸钠的混合物。
5.根据权利要求4所述的一种高稳定的CMP抛光液，其特征在于：所述阴离子聚丙烯酰胺和烷基苯磺酸钠的重量比为(0.05-0.3)：1。
6.根据权利要求4所述的一种高稳定的CMP抛光液，其特征在于：所述烷基苯磺酸钠为十二烷基苯磺酸钠。
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