[发明专利]一种高抛光度CMP抛光液及其制备方法有效
| 申请号： | 202110445740.6 | 申请日： | 2021-04-24 |
| 公开（公告）号： | CN113201284B | 公开（公告）日： | 2022-03-11 |
| 发明（设计）人： | 王继宝;周翠苹 | 申请（专利权）人： | 深圳市撒比斯科技有限公司 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02;C09G1/14;C09G1/16;C09G1/18 |
| 代理公司： | 北京维正专利代理有限公司 11508 | 代理人： | 魏坤宇 |
| 地址： | 518000 广东省深圳市宝安区西*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 抛光 cmp 及其 制备 方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种高抛光度CMP抛光液，其特征在于，每100重量份的抛光液中包括磨料10-45份、pH调节剂2-7份、表面活性剂0.03-0.3份、水溶性环糊精0.5-2.5份、聚乙二醇0.03-0.15份、水补足100份；
所述水溶性环糊精为水溶性聚合环糊精和水杨酸环糊精包合物的混合物；
所述水溶性聚合环糊精和水杨酸环糊精包合物的重量比为1：(0.3-0.7)；
所述聚乙二醇为PEG-600和PEG-800的混合物；
所述PEG-600和PEG-800的重量比为(0.2-0.5)：1。
2.根据权利要求1所述的一种高抛光度CMP抛光液，其特征在于：所述磨料为硅溶胶。
3.根据权利要求1所述的一种高抛光度CMP抛光液，其特征在于：所述表面活性剂为阳离子型表面活性剂。
4.权利要求1-3任一项所述的一种高抛光度CMP抛光液的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：将磨料与水混合均匀后依次投入水溶性环糊精和聚乙二醇混合均匀，接着投入pH调节剂和表面活性剂混合均匀制得高抛光度CMP抛光液。
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