[发明专利]一种AlSc溅射靶材EBSD样品的制样方法在审
申请号: | 202110455805.5 | 申请日: | 2021-04-26 |
公开(公告)号: | CN113125481A | 公开(公告)日: | 2021-07-16 |
发明(设计)人: | 姚力军;边逸军;潘杰;王学泽;李静云 | 申请(专利权)人: | 宁波江丰电子材料股份有限公司 |
主分类号: | G01N23/20058 | 分类号: | G01N23/20058;G01N23/203;G01N23/2005;G01N1/32;G01N1/28 |
代理公司: | 北京远智汇知识产权代理有限公司 11659 | 代理人: | 王岩 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 alsc 溅射 ebsd 样品 方法 | ||
本发明提供了一种AlSc溅射靶材EBSD样品的制样方法,所述制样方法包括如下步骤:(1)线切割AlSc溅射靶材,得到溅射靶材块;(2)对步骤(1)所得溅射靶材块的表面进行至少3次机械研磨,得到机械研磨块;(3)步骤(2)所得机械研磨块进行电解抛光,电解抛光结束后使用腐蚀液进行腐蚀,冲洗干净后完成制样。本发明提供的制样方法能够对AlSc溅射靶材进行表面处理,使其能够用于EBSD检测,使所得EBSD成像图片清晰,保证了EBSD的分析效果。
技术领域
本发明属于检测技术领域,涉及一种制样方法,尤其涉及一种AlSC溅射靶材EBSD样品的制样方法。
背景技术
铝钪压电体薄膜具有高声波波速、高热导率、低介质损耗、优异热稳定性、可与互补金属氧化物半导体工艺兼容等优点,成为制备高频、高功率以及高集成压电元件的理想材料;铝钪合金靶坯的微观组织结构是影响铝钪压电体薄膜性能的重要因素。
电子背散射衍射(EBSD)技术提供了一种新的材料织构分析方法,EBSD既可以测试宏观结构,也能够测试微观结构。EBSD将显微组织和晶体学分析相结合,可提供晶粒、亚晶粒、相组成等晶体组织信息,可以利用极图、反极图和取向分布函数显示晶粒的取向和分布。
电子背散射衍射能够准确地获得样品内部晶粒尺寸、晶体取向、晶界类型、应变分布和相分布等信息。由于EBSD使用过程中的衍射电子来自于只有几十纳米深度的样品表面,因而样品表面的任何污染、应力层、平整度都会对电子散射衍射的结构造成影响,导致最终获得的衍射花样质量不高。
CN 105928767A公开了一种含镍钢EBSD分析用样品的制备方法,所述含镍钢的试样经粗加工、抛光侵蚀后进行精抛,精抛样品经清洁表面,即可得到所述的EBSD分析用样品;所述精抛过程为:先采用金刚石悬浮液对抛光侵蚀后的样品进行抛光,再用氧化铝悬浮液对样品进行抛光。所述制备方法在精抛过程中消除了应力,较常规抛光法更简单省时,并且具有高解析率,稳定性好。
CN 107607383A公开了一种锆合金EBSD试样制备方法,包括先切取锆合金试样块,然后利用乳酸溶液、硝酸溶液和氢氟酸溶液混合组成的化学抛光剂进行化学抛光,最后用水冲洗干净利用冷风谁干,得到锆合金EBSD试样。所述制备方法研磨步骤少,化学抛光操作简单方便,适用于常温使用。
CN 111487268A公开了一种钽材料EBSD样品的表面处理方法,包括:依次使用400#砂纸与1000#砂纸对钽材料的测试面进行第一次机械抛光处理与第二次机械抛光处理,得到经初步处理的钽材料;对所得经初步处理的钽材料进行第三次抛光处理;使用第一混合酸液对所得经第三次抛光处理后的钽材料进行第一次化学抛光处理;使用第二混合酸液对所得经第一次滑雪抛光处理后的钽材料进行第二次化学抛光处理;清洗所得经第二次化学抛光处理后的钽材料,完成钽材料EBSD样品的表面处理。所述表面处理方法能够对具有抗腐蚀性的钽材料进行表面处理,从而实现钽材料EBSD样品的表面处理。
CN 108802076A公开了一种制备纯钛及钛合金EBSD样品的电解抛光方法,包括以下步骤:(1)取纯钛或钛合金薄片,分别用280#和400#砂纸对纯钛或钛合金薄片的两面进行研磨,直至其厚度减少为0.25-0.3mm;(2)将得到的纯钛或钛合金薄片中经400#砂纸研磨的一面再依次用600#、800#、1000#和1200#砂纸进行研磨并控制其厚度不小于0.1mm;(3)使用1200#砂纸将所得样品的毛边研磨光滑;(4)将得到的研磨毛边后的样品进行电解抛光;(5)使用酒精对电解抛光后的纯钛或钛合金样品进行一次清洗和二次清洗。
上述方法分别对不同的材料进行处理,使相应的材料能够用于EBSD测试,但现有技术中未给出针对AlSc靶材的制样方法,上述现有制样方法无法用于AlSc溅射靶材EBSD样品的制备。
发明内容
本发明的目的在于提供一种AlSc溅射靶材EBSD样品的制样方法,所述制样方法操作简单,能够实现对AlSc溅射靶材的制样,保证了所制样品用于EBSD检测时所得图像的清晰度。
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