[发明专利]黑矩阵用抗蚀剂组合物以及黑矩阵在审
申请号: | 202110457761.X | 申请日: | 2021-04-27 |
公开(公告)号: | CN113589645A | 公开(公告)日: | 2021-11-02 |
发明(设计)人: | 辻康人;杉江俊辅;大泊研;井上拓也 | 申请(专利权)人: | 阪田油墨株式会社 |
主分类号: | G03F7/004 | 分类号: | G03F7/004;G02F1/1335 |
代理公司: | 北京英赛嘉华知识产权代理有限责任公司 11204 | 代理人: | 王达佐;洪欣 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 矩阵 用抗蚀剂 组合 以及 | ||
本发明提供一种黑矩阵用抗蚀剂组合物,由其能够形成即使施以高温且长时间的后烘之后表面电阻值也不降低的黑矩阵。所述黑矩阵用抗蚀剂组合物包含黑色着色剂、具有羧基的碱溶性树脂、光聚合引发剂、有机溶剂以及噁嗪化合物,所述噁嗪化合物是下列通式(1)和/或(2)所示的化合物。在通式(1)中,R1和R2表示任选地含有不饱和键的烷基或芳基,彼此任选地相同或不同;X1表示下列式(3)~(5)所示的连接基团中的任一种。在通式(2)中,R3和R4表示任选地含有不饱和键的烷基或芳基,彼此任选地相同或不同;X2是二价的连接基团。
技术领域
本发明涉及黑矩阵用抗蚀剂组合物以及黑矩阵。
背景技术
在利用液晶、等离子体等的图像显示装置中的画面显示区域内的着色图案的间隙和显示区域周围部分的边缘、另外在使用TFT的液晶表示器中的TFT的外光侧等处,设置有遮光膜(黑矩阵,blackmatrix,另有称“黑色基质”)。
并且,在液晶显示装置中主要用于防止来自背光的泄漏而映入画面中,此外在等离子体显示装置中主要用于防止因各色光的混淆而导致的渗染映入画面中,由此有助于提高显示特性(对比度和颜色纯度)。
例如,通常通过在形成有黑矩阵的玻璃或塑料片等透明基板表面以条纹状或马赛克状等图案依次形成红、绿、蓝的不同色相的像素的方法来制造用于将液晶显示装置的背光源的白色光转换为色光的滤色片。
另外,即使在使图像显示装置与位置输入装置对齐的触控面板中,也同样地利用形成有黑矩阵作为遮光膜而得到的滤色片,迄今为止,通常隔着玻璃保护片形成在与传感器基板相反的一侧。然而,随着对触控面板的轻量化的要求的高涨,为了实现进一步的轻量化,正在开发在玻璃保护片的相同一侧同时形成遮光膜和触控传感器的技术。
例如,在专利文献1中公开了一种如下所述的技术:在颜色间隔物形成用感光性着色组合物中,组合使用特定的颜料和炭黑作为着色剂并且使炭黑的含量比例设为特定范围,由此赋予遮蔽性等。
近年来,图像显示装置已经趋向应用于移动用途等各种各样的场景下。
伴随这样的图像显示装置的用途的扩大,要求更牢固的黑矩阵。
作为使黑矩阵更牢固的方法,有时使用施以高温且长时间的后烘的方法。
然而,在以往的黑矩阵用抗蚀剂组合物中,若施以高温且长时间的后烘则会存在表面电阻值降低的问题,尚有改善的余地。
现有技术文献
专利文献
专利文献1:日本特开2016-177190号公报
发明内容
发明要解决的问题
因此,本发明的目的在于提供一种黑矩阵用抗蚀剂组合物,由其能够形成即使施以高温且长时间的后烘之后表面电阻值也不降低的黑矩阵。
用于解决问题的手段
本发明人发现了通过使用包含黑色着色剂、具有羧基的碱溶性树脂、光聚合引发剂、有机溶剂以及噁嗪化合物并且将具有特定结构的化合物作为上述噁嗪化合物,由此可得到能够形成即使施以高温且长时间的后烘之后表面电阻值也不降低的黑矩阵的黑矩阵用抗蚀剂组合物,从而达到了本发明的完成。
即,本发明提供一种黑矩阵用抗蚀剂组合物,其包含黑色着色剂、具有羧基的碱溶性树脂、光聚合引发剂、有机溶剂以及噁嗪化合物,上述噁嗪化合物是下列通式(1)和/或(2)所示的化合物。
在通式(1)中,R1和R2表示任选地含有不饱和键的烷基或芳基,彼此任选地相同或不同。X1表示下列式(3)~(5)所示的连接基团中的任一种。
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