[发明专利]一种含氟清洗液组合物的制备方法有效
申请号: | 202110461586.1 | 申请日: | 2021-04-27 |
公开(公告)号: | CN113150884B | 公开(公告)日: | 2022-12-30 |
发明(设计)人: | 王溯;蒋闯;冯强强;史筱超;于仙仙;王亮 | 申请(专利权)人: | 上海新阳半导体材料股份有限公司 |
主分类号: | C11D1/72 | 分类号: | C11D1/72;C11D3/39;C11D3/32;C11D3/33;C11D3/04;C11D3/30;C11D3/28;C11D3/20;C11D3/26;C11D3/60;C23F1/26 |
代理公司: | 上海弼兴律师事务所 31283 | 代理人: | 王卫彬;陈卓 |
地址: | 201616 *** | 国省代码: | 上海;31 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 清洗 组合 制备 方法 | ||
1.一种含氟清洗液组合物的制备方法,其特征在于,其包括如下步骤:将所述的含氟清洗液组合物中的各个组分混合,即得到所述的含氟清洗液组合物:
所述的含氟清洗液组合物包括下述质量分数的组分:10-30%氧化剂、0.001-0.01%还原型谷胱甘肽、0.001-0.25%半胱氨酸、1-5%氟化物、1-5%有机碱、0.01-2%螯合剂、0.01-2%缓蚀剂、0.5-3%羧酸铵、0.01-1% EO-PO聚合物L81、0.01-2% 9-蒽甲醛-1,1-二苯基腙和水,水补足余量;各组分质量分数之和为100%;
所述的氧化剂为过氧化氢、过氧化脲和过氧乙酸中一种或多种;
所述的氟化物为氟化氢;
所述的有机碱为四甲基氢氧化铵和/或胆碱;
所述的螯合剂为1,2-环己二胺-N,N,N',N'-四乙酸和/或乙二胺四乙酸;
所述的缓蚀剂为苯并三唑和/或甲苯三唑;
所述的羧酸铵为草酸铵和/或柠檬酸三铵。
2.如权利要求1所述的含氟清洗液组合物的制备方法,其特征在于,所述的含氟清洗液组合物的制备方法中,所述的混合的方式为将所述的组分中的固体组分加入到液体组分中,搅拌均匀;
和/或,所述的含氟清洗液组合物的制备方法中,所述的混合的温度为10-30℃。
3.如权利要求1所述的含氟清洗液组合物的制备方法,其特征在于,所述的含氟清洗液组合物中,所述的氧化剂的质量分数为10-15%;
和/或,所述的含氟清洗液组合物中,所述的还原型谷胱甘肽的质量分数为0.005%-0.01%;
和/或,所述的含氟清洗液组合物中,所述的半胱氨酸的质量分数为0.15-0.25%;
和/或,所述的含氟清洗液组合物中,所述的氟化物的质量分数为1.0-2.5%;
和/或,所述的含氟清洗液组合物中,所述的有机碱的质量分数为1.0-2.5%;
和/或,所述的含氟清洗液组合物中,所述的螯合剂的质量分数为0.01-1.0%;
和/或,所述的含氟清洗液组合物中,所述的缓蚀剂的质量分数为0.01-0.5%;
和/或,所述的含氟清洗液组合物中,所述的羧酸铵的质量分数为0.5-1.0%;
和/或,所述的含氟清洗液组合物中,所述的EO-PO聚合物L81的质量分数为0.01-0.05%;
和/或,所述的含氟清洗液组合物中,所述的9-蒽甲醛-1,1-二苯基腙的质量分数为0.01-0.9%。
4.如权利要求1所述的含氟清洗液组合物的制备方法,其特征在于,所述的含氟清洗液组合物中,所述的氧化剂的质量分数为15-30%;
和/或,所述的含氟清洗液组合物中,所述的氟化物的质量分数为2.5-5.0%;
和/或,所述的含氟清洗液组合物中,所述的有机碱的质量分数为2.5-5.0%;
和/或,所述的含氟清洗液组合物中,所述的螯合剂的质量分数为1.0-2.0%;
和/或,所述的含氟清洗液组合物中,所述的缓蚀剂的质量分数为0.5-2.0%;
和/或,所述的含氟清洗液组合物中,所述的羧酸铵的质量分数为1.0-3.0%;
和/或,所述的含氟清洗液组合物中,所述的EO-PO聚合物L81的质量分数为0.05-1.0%;
和/或,所述的含氟清洗液组合物中,所述的9-蒽甲醛-1,1-二苯基腙的质量分数为0.9-2.0%。
5.如权利要求1所述的含氟清洗液组合物的制备方法,其特征在于,所述的含氟清洗液组合物不含有胺类化合物、醇胺类化合物或胺-N-氧化合物;所述的胺类化合物为伯胺、仲胺、叔胺或者含有这些胺的醇类化合物;
和/或,所述的含氟清洗液组合物中,所述的氧化剂为过氧化氢和/或过氧乙酸;
和/或,所述的含氟清洗液组合物中,所述的有机碱为四甲基氢氧化铵;
和/或,所述的水为去离子水。
6.如权利要求5所述的含氟清洗液组合物的制备方法,其特征在于,所述的醇胺类化合物为三乙醇胺、N-甲基乙醇胺、N,N-二甲基二甘醇胺;
和/或,所述的胺-N-氧化合物为N-甲基吗啉氧化物。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海新阳半导体材料股份有限公司,未经上海新阳半导体材料股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202110461586.1/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。