[发明专利]一种用于无掩膜曝光的投影模组

说明书

本发明公开了一种用于无掩膜曝光的投影模组，包括前透镜组、光阑以及后透镜组，光阑位于前透镜组及后透镜组之间，前透镜组包括依次设置的第一透镜，第一透镜为凸凹透镜；第二透镜，第二透镜为凸平透镜；第三透镜，第三透镜为凸凹透镜；第四透镜，第四透镜为平凸透镜；后透镜组包括依次设置的第五透镜，第五透镜为凹平透镜；第六透镜，第六透镜为凹凸透镜；第七透镜，第七透镜为凹凸透镜；第八透镜，第八透镜为凸平透镜。通过上述设计，本发明用于无掩膜曝光的投影模组能够实现370nm‑410nm范围内的消色差成像，成像效果好，透过率高、畸变低、物像远心度小。

技术领域

本发明涉及光学镜头，尤其是涉及一种微纳光刻用无掩膜曝光的投影模组。

背景技术

在微电子、光学、线路板等微加工领域，紫外曝光机具有非常重要的应用。传统掩膜式曝光机使用的是大尺寸平行紫外光源加掩膜的曝光形式。而目前现有无掩膜曝光机采用的是光源、光源准直系统、DMD芯片以及投影模组的结构。但现有的投影模组无法实现370nm-410nm范围内的消色差成像，导致成像效果不好。

发明内容

为了克服现有技术的不足，本发明的目的之一在于提供一种能够实现370nm-410nm范围内的消色差成像，成像效果好的用于无掩膜曝光的投影模组。

本发明的目的之一采用以下技术方案实现：

一种用于无掩膜曝光的投影模组，包括前透镜组、光阑以及后透镜组，所述光阑位于所述前透镜组及所述后透镜组之间，所述前透镜组包括依次设置的第一透镜，所述第一透镜为凸凹透镜；第二透镜，所述第二透镜为凸平透镜；第三透镜，所述第三透镜为凸凹透镜；第四透镜，所述第四透镜为平凸透镜；所述后透镜组包括依次设置的第五透镜，所述第五透镜为凹平透镜；第六透镜，所述第六透镜为凹凸透镜；第七透镜，所述第七透镜为凹凸透镜；第八透镜，所述第八透镜为凸平透镜。

进一步地，所述前透镜组前为物面，所述后透镜后为像面；或者所述前透镜组前为像面，所述后透镜后为物面。

进一步地，所述第一透镜靠近物面为凸面，靠近像面为凹面。

进一步地，所述第二透镜靠近物面为凸面，靠近像面为平面。

进一步地，所述第三透镜靠近物面为凸面，靠近像面为凹面。

进一步地，所述第四透镜靠近物面为平面，靠近像面为凸面。

进一步地，所述第五透镜靠近物面为凹面，靠近像面为平面。

进一步地，所述第六透镜靠近物面为凹面，靠近像面为凸面。

进一步地，所述第七透镜靠近物面为凹面，靠近像面为凸面。

进一步地，所述第八透镜靠近物面为凸面，靠近像面为平面。

相比现有技术，本发明用于无掩膜曝光的投影模组能够实现370nm-410nm范围内的消色差成像，成像效果好，透过率高、畸变低、像面远心度小。

附图说明

图1为本发明用于无掩膜曝光的投影模组的光路示意图；

图2为图1的用于无掩膜曝光的投影模组的场曲图；

图3为图1的用于无掩膜曝光的投影模组的畸变图；

图4为图1的用于无掩膜曝光的投影模组的MTF图；

图5为图1的用于无掩膜曝光的投影模组的弥散斑示意图；

图6为图1的用于无掩膜曝光的投影模组的像面远心度曲线图。