[发明专利]一种催化基板及其制备方法

说明书

本发明提供了一种催化基板及其制备方法，其中，所述催化基板包括：支撑基材及催化薄膜；所述支撑基材包括支撑底板及所述支撑底板表面上的可光致变形的液晶聚合物层；所述催化薄膜为二氧化钛薄膜，镀于所述支撑基材表面。本发明利用液晶聚合物的可光致变形特性，使液晶聚合物经紫外光照射后变形，进而为二氧化钛薄膜引入应力，提高二氧化钛的催化活性。

技术领域

本发明涉及TiO₂光催化领域，尤其涉及一种催化基板及其制备方法。

背景技术

现有的光催化过程中，常将催化剂制成球状，或是在基板表面涂覆催化剂以形成有效的催化表面。TiO₂(二氧化钛)作为一种催化材料，可涂覆于水催化基板，形成活性表面。现有技术中只能通过提高催化剂比表面积的方式提高催化效率，提升的TiO₂的催化活性有限。

发明内容

为解决上述问题，本发明提供了一种催化基板及其制备方法，通过在二氧化钛薄膜中引入应力的方式提高催化基板的催化活性。

为达到上述目的，本发明提供了一种催化基板，包括：支撑基材及催化薄膜；所述支撑基材包括支撑底板及所述支撑底板表面上的可光致变形的液晶聚合物层；所述催化薄膜为二氧化钛薄膜，镀于所述支撑基材表面。

进一步可选的，所述支撑底板包括：玻璃基板、硅片、PCB板或金属基板。

进一步可选的，所述支撑底板的上表面为平面。

进一步可选的，所述支撑底板上开设有多个通孔或凹槽。

进一步可选的，所述可光致变形的液晶聚合物层通过真空蒸镀的方式镀于所述支撑底板的表面。

进一步可选的，所述二氧化钛薄膜通过磁控溅射的方式镀于所述支撑基材的表面。

另一方面，本发明实施例提供了一种催化基板的制备方法，包括：在支撑底板的表面镀一层可光致变形的液晶聚合物层，得到支撑基材；在所述支撑基材的表面镀一层二氧化钛薄膜，得到初始催化基板；使用紫外光对所述初始催化基板进行照射，得到催化基板。

进一步可选的，所述在支撑底板的表面镀一层可光致变形的液晶聚合物层，包括：通过真空蒸镀的方式在所述支撑底板的表面镀一层所述可光致变形的液晶聚合物层。

进一步可选的，所述在所述支撑基材的表面镀一层二氧化钛薄膜，包括：通过磁控溅射的方式在所述液晶聚合物层的表面镀一层二氧化钛薄膜。

进一步可选的，所述在支撑底板的表面镀一层可光致变形的液晶聚合物层之前，包括：在所述支撑底板上开设多个通孔或凹槽。

上述技术方案具有如下有益效果：支撑底板的表面镀有一层可光致变形的液晶聚合物层，液晶聚合物层的表面镀有一层二氧化钛薄膜，使用紫外光照射后可使液晶聚合物层变形，变形后液晶聚合物的表面形成褶皱状态，通过褶皱的形成向二氧化钛薄膜中引入应力，二氧化钛因应力作用处于拉伸状态，可提高二氧化钛的催化活性。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1是本发明实施例提供的催化基板的结构示意图；

图2是本发明另一种实施例提供的催化基板的结构示意图；

图3是本发明实施例提供的初始催化基板的结构示意图；

图4是本发明实施例提供的催化基板的制备方法的流程图。

1-支撑底板2-液晶聚合物层3-二氧化钛薄膜

具体实施方式