[发明专利]一种铌酸锂晶体化学机械抛光液在审
| 申请号： | 202110466472.6 | 申请日： | 2021-04-28 |
| 公开（公告）号： | CN113185920A | 公开（公告）日： | 2021-07-30 |
| 发明（设计）人： | 郭江;景浩;张鹏飞;司立坤 | 申请（专利权）人： | 大连理工大学;大连理工大学宁波研究院 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02 |
| 代理公司： | 大连理工大学专利中心 21200 | 代理人： | 李晓亮 |
| 地址： | 116024 辽*** | 国省代码： | 辽宁;21 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 铌酸锂 晶体化学 机械抛光 | ||
【权利要求书】：
1.一种铌酸锂晶体化学机械抛光液，其特征在于，所述铌酸锂化学机械抛光液的pH为9.5-10，包含溶质和溶剂两部分；
所述溶剂为去离子水；
按溶质总质量分数100％计，其各组分和质量百分比含量如下：10～20wt％硅溶胶，1～2wt％氢氧化钾，0.02～0.05wt％表面活性剂，其余为pH调节剂，各物质在去离子水中通过超声混合均匀。
2.根据权利要求1所述的一种铌酸锂晶体化学机械抛光液，其特征在于，所述的硅溶胶中的二氧化硅磨料的粒径为20-50nm，二氧化硅磨料在硅溶胶中的质量分数为10～20％。
3.根据权利要求1或2所述的一种铌酸锂晶体化学机械抛光液，其特征在于，所述的表面活性剂为氧化石墨烯。
4.根据权利要求1或2所述的一种铌酸锂晶体化学机械抛光液，其特征在于，所述的pH调节剂包括磷酸、乙酸、草酸或柠檬酸。
5.根据权利要求3所述的一种铌酸锂晶体化学机械抛光液，其特征在于，所述的pH调节剂包括磷酸、乙酸、草酸或柠檬酸。
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