[发明专利]用于对被培养的样品进行显微镜检查的系统在审
申请号: | 202110466858.7 | 申请日: | 2021-04-28 |
公开(公告)号: | CN113652353A | 公开(公告)日: | 2021-11-16 |
发明(设计)人: | 斯特凡·克莱斯特 | 申请(专利权)人: | 莱卡微系统CMS有限责任公司 |
主分类号: | C12M3/00 | 分类号: | C12M3/00;C12M1/38;C12M1/36;C12M1/34;C12M1/04;C12M1/02 |
代理公司: | 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201 | 代理人: | 宋融冰 |
地址: | 德国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 培养 样品 进行 显微镜 检查 系统 | ||
本发明涉及一种用于对样品(120)进行显微镜检查的系统(130),包括显微镜(100)和连接到显微镜(100)的培养环境调节单元(110),显微镜(100)包括:包围照明光学器件(118)、显微镜台(116)和成像光学器件(124)的显微镜壳体(102),位于显微镜壳体(102)内且由显微镜壳体(102)内的单独的壳体区段(104)形成的集成的样品室(106),其中壳体区段(104)包括构造用于将培养环境调节单元(110)连接到样品室(106)和/或台顶室(230)的显微镜接口(108),台顶室放置在样品室(106)内且构造为接收样品(120),其中系统提供第一培养模式和第二培养模式,其中,在第一培养模式下通过由培养环境调节单元(110)供给第一培养气氛来培养样品室(106),并且在第二培养模式下通过由培养环境调节单元(110)供给第二培养气氛来培养台顶室(230)。
技术领域
本发明构思涉及一种用于对样品进行显微镜检查的系统,该系统包括显微镜和连接到所述显微镜的培养环境调节单元,该系统尤其是用于对在适合样品的培养气氛中培养的该样品进行检查。
背景技术
尤其是在对例如细胞的活体样品进行显微镜检查的领域中,十分有益的是,将样品在有利的并且无压力的环境条件下保持得尽可能长久。为了这个目的,培养室被用来建立适合于待检查样品的微型气候。现有的培养器可以分为台顶式培养器和笼式培养器。
笼式培养器安装到标准显微镜,尤其是安装到直立式显微镜,并且包括覆盖显微镜主要部件的大型气候室,使得需要培养较大的容积,这些主要部件例如是物镜转轮、包括样品载体的显微镜台和聚光器。对用于放置或操纵样品的工作区域的接近在笼式培养器的内部提供,并且可以通过笼式培养器壁中的专用开口而实现。尤其是由于这些处理开口,笼式培养器的尺寸如此之大,使得它明显超出显微镜支架。因此,不可能以节省空间的方式为显微镜配备笼式培养器。另一方面,由于台顶式培养器仅包围样品本身并且被放置在显微镜台上,因此台顶式培养器提供了较小的待培养容积。即使台顶式培养器的空间要求最小化,但由于样品被密封箱包围,因此对样品的接近受到阻碍,该密封箱必须被打开以致破坏箱内的培养气氛。由于台顶式培养器模块的严格空间限制,即使不是不可能,也很难接近样品以引入用于操纵样品的附加设备。相比于笼式培养器的高能量消耗和高气体消耗,台顶式培养器提供了小型封闭的培养室,该培养室包括连接好的供给导管,用于供给所期望的培养气氛。另一方面,由于笼式培养器每次交换的空气量通常超过台顶式培养器,所以台顶式培养器模块能够快速平衡培养气氛的任何干扰(例如,在打开模块之后)或达到所需的设定。
台顶式培养器允许密切控制样品周围的直接培养环境,需调节的容积被最小化,从而允许快速改变培养环境。然而,对样本本身的接近非常受限,并且至今台顶式解决方案给用户系统增加了显著的复杂性和高昂的价格。另一方面,笼式培养器更容易接近样品,然而在改变环境条件或达到预定培养气氛的设定点时,笼式培养器的速度很慢。
至此,用户需要安装/购买两个独立的系统,即一个台顶式培养器系统和一个笼式培养器,以便能够在不同的培养环境下灵活地检查各种样品,并利用这两个系统的有利之处。然而,这会增加成本和复杂性,并且由于每个系统都有自己的控制单元和软件,不利于整个系统的可用性。
发明内容
鉴于以上缺点和问题,需要改进显微术中的培养解决方案。
本发明构思的实施例提供一种用于对样品进行显微镜检查(也可理解为成像)的系统,该系统包括根据权利要求1所述的显微镜和连接到该显微镜的培养环境调节单元。所述系统的显微镜包括:显微镜壳体,该显微镜壳体包围照明光学器件、显微镜台和成像光学器件;以及集成的样品室,该样品室位于显微镜壳体内并由该显微镜壳体内的单独的壳体区段形成,其中,所述壳体区段包括显微镜接口,该显微镜接口构造用于将培养环境调节单元连接到样品室和/或台顶室,该台顶室被放置在所述样品室内并且构造为接收样品。该系统提供第一培养模式和第二培养模式,其中,在第一培养模式下,通过供给第一培养气氛来培养样品室,并且在第二培养模式下,通过由培养环境调节单元供给第二培养气氛来培养台顶室。
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