[发明专利]一种高通量荷正电纳滤膜及其制备方法

权利要求书

1.一种高通量荷正电纳滤膜，其特征在于，所述的高通量荷正电纳滤膜包括多孔支撑层和荷正电纳滤选择层；所述荷正电纳滤选择层由水相溶液和油相溶液通过界面聚合反应后再经热处理形成；所述水相溶液是含有亲水性胺类单体和水相添加剂的水溶液，其中，所述的亲水性胺类单体为2,4-二氨基-6-苯基-1,3,5三嗪、1,3-双（氨甲基）环己烷、三（羟甲基）氨基甲烷、N-氨基邻苯二甲酰亚胺和2,4-二甲氧基苯甲胺中的至少一种；所述水相添加剂包括表面活性剂和质子接收剂；所述油相溶液为酰氯单体溶于有机溶剂的溶液。

2.一种高通量荷正电纳滤膜的制备方法：其特征在于，包括以下步骤：

S1：配置水相溶液：在含有亲水性胺类单体的水溶液中加入表面活性剂和质子接收剂，混合均匀；其中，所述的亲水性胺类单体为2,4-二氨基-6-苯基-1,3,5三嗪、1,3-双（氨甲基）环己烷、三（羟甲基）氨基甲烷、N-氨基邻苯二甲酰亚胺和2,4-二甲氧基苯甲胺中的至少一种；

S2：在多孔支撑层表面制备荷正电纳滤选择层，所述的荷正电纳滤选择层由所述水相溶液与酰氯单体的油相溶液通过界面聚合反应，经热处理而得。

3.如权利要求2所述的高通量荷正电纳滤膜的制备方法，其特征在于：

步骤S2包括：将多孔支撑层浸入所述的水相溶液中，静置，取出除去多孔支撑层表面残余的水相溶液；再将多孔支撑层浸入含有酰氯单体的油相溶液中，静置进行界面反应，取出除去膜片表面残余的油相溶液，再进行热处理。

4.如权利要求2所述的高通量荷正电纳滤膜的制备方法，其特征在于：

所述的水相溶液中的亲水性胺类单体的质量浓度为0.5%-5%。

5.如权利要求2所述的高通量荷正电纳滤膜的制备方法，其特征在于：

所述的质子接收剂为氢氧化钠、磷酸三钠、磷酸氢钠、磷酸氢二钠、碳酸氢钠和磷酸三钾中的至少一种；

所述水相溶液中的质子接收剂的质量浓度为1%-5%；

所述的表面活性剂包括但不局限于十二烷基硫酸钠、十二烷基苯磺酸钠、樟脑磺酸钠、乳酸钠、四甲基氯化铵、四乙基氯化铵和四乙基醋酸铵中的至少一种；

所述水相溶液中的表面活性剂的质量浓度为0.1%-5%。

6.如权利要求2所述的高通量荷正电纳滤膜的制备方法，其特征在于：

所述酰氯单体为均苯三甲酰氯、间苯二甲酰氯和对苯二甲酰氯中的至少一种；

所述的油相溶液的溶剂为异构烷烃溶剂Isopar L、异构烷烃溶剂Isopar G、正己烷和环己烷中的至少一种；

所述的油相溶液中的酰氯单体的质量浓度为0.1%-0.3%。

7.如权利要求2所述的高通量荷正电纳滤膜的制备方法，其特征在于：

所述界面聚合的反应时间为10-30s。

8.如权利要求2所述的高通量荷正电纳滤膜的制备方法，其特征在于：

步骤S2中，热处理的温度为60-110℃，热处理的时间为2-6min。

9.如权利要求2-8任一项所述的高通量荷正电纳滤膜的制备方法，其特征在于：步骤S2中，对膜片进行热处理的同时在膜片表面喷洒去离子水雾。

10.如权利要求9所述的高通量荷正电纳滤膜的制备方法，其特征在于：喷洒去离子水雾的时间为10-60s；

所述的去离子水雾的雾滴粒径为50±5um。