[发明专利]基于错误率变化型式在编程擦除循环期间对数据单元的选择性采样在审

专利信息
申请号: 202110472020.9 申请日: 2021-04-29
公开(公告)号: CN113571120A 公开(公告)日: 2021-10-29
发明(设计)人: H·R·桑吉迪;A·马尔谢;V·P·拉亚普鲁;K·K·姆奇尔拉 申请(专利权)人: 美光科技公司
主分类号: G11C29/42 分类号: G11C29/42;G11C29/44
代理公司: 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 代理人: 王龙
地址: 美国爱*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 基于 错误率 变化 型式 编程 擦除 循环 期间 数据 单元 选择性 采样
【说明书】:

本公开涉及基于错误率变化型式在编程擦除循环期间对数据单元的选择性采样。以操作方式与存储器装置耦合的处理装置配置成对所述存储器装置的数据单元进行第一编程擦除循环PEC,其中进行所述第一PEC包括扫描所述数据单元的多个页中的第一组页以确定第一错误率。所述处理装置还基于所述第一错误率和第二错误率来确定所述数据单元的错误率变化的第一型式。所述处理装置接着比较所述数据单元的所述错误率变化的第一型式与指示缺陷的错误率变化的预定型式。响应于确定所述错误率变化的第一型式对应于所述错误率变化的预定型式,所述处理装置进行与关于所述数据单元的缺陷修复有关的动作。

技术领域

本公开大体上涉及存储器子系统,且更具体地说,涉及基于错误率变化型式在编程擦除循环期间对数据单元的选择性采样。

背景技术

存储器子系统可包含存储数据的一或多个存储器装置。存储器装置可以是例如非易失性存储器装置和易失性存储器装置。一般来说,主机系统可利用存储器子系统以将数据存储在存储器装置处且从存储器装置检索数据。

发明内容

在一个方面中,本公开涉及一种方法,其包括:对存储器装置的数据单元进行第一编程擦除循环(PEC),其中进行所述第一PEC包括扫描所述数据单元的多个页中的第一组页以确定与所述第一组页相关联的第一错误率;对所述存储器装置的所述数据单元进行第二PEC,其中进行所述第二PEC包括扫描所述数据单元的所述多个页中的第二组页以确定与所述第二组页相关联的第二错误率;基于所述第一错误率和所述第二错误率来确定所述数据单元的错误率变化的第一型式;比较所述数据单元的所述错误率变化的第一型式与错误率变化的预定第二型式,其中所述错误率变化的预定第二型式指示缺陷;和响应于确定所述错误率变化的第一型式对应于所述错误率变化的预定第二型式,进行与关于所述数据单元的缺陷修复有关的动作。

在另一方面中,本公开涉及一种系统,其包括:存储器装置;和处理装置,其以操作方式与所述存储器装置耦合以进行包括以下的操作:扫描所述存储器装置的数据单元的多个页中的一组页以确定与所述一组页相关联的第一错误率;从存储位置检索与所述数据单元相关联的第二错误率;基于所述第一错误率和所述第二错误率来确定所述数据单元的错误率变化的第一型式;比较所述错误率变化的第一型式与错误率变化的预定第二型式,其中所述错误率变化的预定第二型式指示缺陷;和响应于确定所述错误率变化的第一型式对应于所述错误率变化的预定第二型式,进行与关于所述数据单元的缺陷修复有关的动作。

在又一方面中,本公开涉及一种非暂时性计算机可读存储介质,其包括指令,所述指令在由处理装置执行时使得所述处理装置进行以下操作:对存储器装置的数据单元进行第一编程擦除循环(PEC),其中进行所述第一PEC包括扫描所述数据单元的多个页中的第一组页以确定与所述第一组页相关联的第一错误率;对所述存储器装置的所述数据单元进行第二PEC,其中进行所述第二PEC包括扫描所述数据单元的所述多个页中的第二组页以确定与所述第二组页相关联的第二错误率;基于所述第一错误率和所述第二错误率来确定所述数据单元的错误率变化的第一型式;比较所述数据单元的所述错误率变化的第一型式与错误率变化的预定第二型式,其中所述错误率变化的预定第二型式指示缺陷;和响应于确定所述错误率变化的第一型式对应于所述错误率变化的预定第二型式,进行与关于所述数据单元的缺陷修复有关的动作。

附图说明

根据下文给出的具体实施方式且根据本公开的各种实施例的附图将更加充分地理解本公开。

图1说明根据本公开的一些实施例的用于支持基于错误率变化型式在编程擦除循环期间对数据单元的选择性采样的实例计算系统。

图2说明根据本公开的一些实施例的可在数据单元的多个编程擦除循环(PEC)上跟踪以便确定数据单元中的缺陷的可能性的RBER变化型式。

图3说明根据本公开的一些实施例的在将数据单元的页分配给多组页以用于在编程擦除循环(PEC)期间扫描以支持PEC中的选择性采样的情况下的框图。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于美光科技公司,未经美光科技公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202110472020.9/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top