[发明专利]一种光伏组件用反射膜及其制备方法

权利要求书

1.一种光伏组件用反射膜，其特征在于，包括：基底(10)和设置于基底上的镀膜；

所述镀膜包括依次交叠设置在基底上的第一材料镀膜层(11)和第二材料镀膜层(12)；

镀膜的底层和最顶层均为第一材料镀膜层；第一材料镀膜层(11)和第二材料镀膜层(12)由折射率不同的材料制成。

2.根据权利要求1所述的一种光伏组件用反射膜，其特征在于，第一材料镀膜层(11)的折射率大于第二材料镀膜层(12)的折射率。

3.根据权利要求1所述的一种光伏组件用反射膜，其特征在于，所述光伏组件用反射膜的截止波长为900nm。

4.根据权利要求1所述的一种光伏组件用反射膜，其特征在于，基底(10)的材质为铝片、钢片、铜片、玻璃片或石英片。

5.根据权利要求1所述的一种光伏组件用反射膜，其特征在于，基底(10)的材质为高硼硅玻璃。

6.根据权利要求1所述的一种光伏组件用反射膜，其特征在于，基底(10)的材质柔性塑料。

7.根据权利要求1所述的一种光伏组件用反射膜，其特征在于，第一材料镀膜层(11)和第二材料镀膜层(12)分别由Ta₂O₅和SiO₂沉积制成。

8.根据权利要求7所述的一种光伏组件用反射膜，其特征在于，所述镀膜包括51层，51层由下至上的结构具体为：0.377H 0.579L 0.396H 0.586L 1.21H 0.103L 2.075H 0.233L1.526H 1.653L 0.364H 1.682L 0.266H 1.351L 1.164H 1.156L 0.634H 0.367L 0.544H0.967L 0.366H 1.065L 1.506H 0.686L 2.385H 1.08L 0.892H 0.736L 0.666H 1.073L1.45H 0.153L 0.375H 0.767L 0.384H 0.015L 1.407H 1.128L 1.206H 1.087L 0.359H0.458L 0.539H 1.925L 0.53H 1.952L 0.66H 0.27L 0.247H 2.805L 0.037H；

其中，H表示高折射率的第一材料镀膜层(11)，L表示低折射率的第二材料镀膜层(12)；厚度单位为nm。

9.根据权利要求1所述的一种光伏组件用反射膜，其特征在于，所述光伏组件用反射膜的工作角度为45°，400～900nm波段透过率在20～30％之间，900nm～1800nm波段透过率为T≥80％。

10.权利要求1所述的一种光伏组件用反射膜的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

1)、将真空室抽真空至5×10^-3Pa，打开烘烤系统，温度设定为250℃，当温度达到设定值250℃后，保温一小时；

2)、镀膜前向真空室充入25sccm的Ar气体，对基底(10)进行离子束轰击进行基底清洗，轰击电压为200V，电流为4A，轰击时间15分钟；

3)、按镀膜结构，逐层制备镀膜，完成反射膜的制备；其中，第一材料镀膜层(11)和第二材料镀膜层(12)分别由Ta₂O₅和SiO₂蒸镀制得，Ta₂O₅和SiO₂都采用电子枪蒸发，蒸发速率分别为0.4nm/s和1nm/s。