[发明专利]一种MEMS加速度计低应力集成封装结构及方法在审

专利信息
申请号: 202110475798.5 申请日: 2021-04-29
公开(公告)号: CN113371668A 公开(公告)日: 2021-09-10
发明(设计)人: 刘国文;高乃坤;李兆涵;刘福民;赵亭杰;张树伟;王学锋 申请(专利权)人: 北京航天控制仪器研究所
主分类号: B81B7/00 分类号: B81B7/00;B81B7/02;B81C1/00
代理公司: 中国航天科技专利中心 11009 代理人: 徐晓艳
地址: 100854 北京*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 一种 mems 加速度计 应力 集成 封装 结构 方法
【权利要求书】:

1.一种MEMS加速度计低应力集成封装结构,其特征在于包括应力隔离框架(7)、封装管壳(8)和封装盖板(9);

MEMS加速度计包括MEMS加速度计芯片(1)和用于加速度计芯片信号的调理与采集的ASIC芯片(6),被封装MEMS加速度计芯片(1)固定在封装管壳(8)基底上;应力隔离框架(7)为倒U型盖板,倒U型盖板与封装管壳(8)底部相粘结,跨在被封装MEMS加速度计芯片(1)上,所述被封装ASIC芯片(6)粘结在应力隔离框架(7)上表面,实现与MEMS加速度计芯片(1)的隔离式堆叠布置;被封装MEMS加速度计芯片(1)的电极焊盘与对应的被封装ASIC芯片(6)电极焊盘互连,所述被封装ASIC芯片(6)的电极焊盘与对应的封装管壳(8)上的焊盘进行金丝键合,实现MEMS器件的电气连接。

2.根据权利要求1所述的一种MEMS加速度计低应力集成封装结构,其特征在于所述被封装MEMS加速度计芯片(1)包括被封装MEMS加速度计敏感结构(2)、封帽层(3)和衬底层(4);

所述被封装MEMS加速度计芯片(2)位于封帽层(3)和衬底层(4)之间,通过锚区(5)与封帽层(3)和衬底层(4)键合,所述锚区(5)键合面形貌呈岛式分布。

3.根据权利要求1所述的一种MEMS加速度计低应力集成封装结构,其特征在于所述被封装MEMS加速度计芯片(1)通过第一粘结剂(12)固定在封装管壳(8)基底上;所述第一粘结剂(12)粘结位置位于被封装MEMS加速度计芯片内部锚区(5)在封装管壳(8)基底的投影位置。

4.根据权利要求1所述的一种MEMS加速度计低应力集成封装结构,其特征在于所述第一粘结剂(12)通过点胶的方式使被封装MEMS加速度计芯片(1)呈圆柱状粘结在封装管壳基底上。

5.根据权利要求1所述的一种MEMS加速度计低应力集成封装结构,其特征在于所述应力隔离框架(7)通过第二粘结剂(10)与封装管壳(8)底部相粘结。

6.根据权利要求1所述的一种MEMS加速度计低应力集成封装结构,其特征在于所述应力隔离框架(7)材料为硅。

7.根据权利要求1所述的一种MEMS加速度计低应力集成封装结构,其特征在于所述被封装ASIC芯片(6)通过第三粘结剂(11)粘结在应力隔离框架(7)平板上表面,第三粘结剂(11)选用ASIC专用粘结胶,且采用平铺的方式实现被封装ASIC芯片(6)与应力隔离框架(7)上表面的粘结。

8.一种MEMS加速度计低应力集成封装方法,其特征在于包括如下步骤:

S1、对封装管壳(8)、应力隔离框架(7)、被封装MEMS加速度计芯片(1)、被封装ASIC芯片(6)进行清洗;

S2、通过点胶的方式将被封装MEMS加速度计芯片(1)固定在封装管壳(8)基底上;所述第一粘结剂(12)粘结位置位于MEMS加速度计芯片内部锚区(5)在封装管壳(8)基底的投影位置;

S3、将应力隔离框架(7)粘结在封装管壳(8)上;

S4、将被封装ASIC芯片(6)在应力隔离框架(7)上表面的粘结;

S5、将被封装MEMS加速度计芯片(1)的电极焊盘与对应的被封装ASIC芯片(6)电极焊盘互连;

S6、将被封装ASIC芯片(6)的电极焊盘与对应的封装管壳(8)上的焊盘进行金丝键合,实现MEMS器件的电气连接;

S7、采用共晶熔合的方式实现封装管壳(8)和封装盖板(9)的集成封装。

9.根据权利要求8所述的一种MEMS加速度计低应力集成封装方法,其特征在于步骤S3中,所述应力隔离框架(7)为倒U型盖板,倒U型盖板与封装管壳(8)底部相粘结,跨在被封装MEMS加速度计芯片(1)上。

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