[发明专利]一种磁控溅射平面阴极装置

权利要求书

1.一种磁控溅射平面阴极装置，包含磁体组(2)和磁轭(3)，在使用时配合靶材(1)设置，磁体组(2)固定在磁轭(3)上置于磁轭(3)和靶材(1)之间，其中，磁体组(2)包括位于磁轭中部的中心磁铁和位于磁轭边缘的外侧磁铁，磁体磁化极轴垂直于靶材(1)平面，外侧磁铁磁极方向相同，外侧磁铁与中心磁铁磁极相反，外侧磁铁由磁轭与中心磁铁连接形成闭合磁回路，并在靶材表面形成磁场从而约束等离子体；

其特征在于：

所述磁体组(2)包括三套磁体组，分别是直道区磁体组(5)、过渡区磁体组(6)及环形区磁体组(7)，过渡区磁体组(6)衔接直道区磁体组(5)和环形区磁体组(7)；

所述直道区磁体组(5)和过渡区磁体组(6)分别包含一组中心磁铁和两组外侧磁铁，环形区磁体组(7)包含一组中心磁铁和一组外环磁铁；

直道区磁体组(5)的外侧磁体的间距为d1，环形区磁体组(7)的外环磁铁直径为d2，则d2d1。

2.根据权利要求1所述的一种磁控溅射平面阴极装置，其特征在于：过渡区磁体组(6)外侧磁体在与直道区磁体组(5)相接处的间距为d1，过渡区磁体组(6)外侧磁体与环形区磁体组(7)相接处的间距为d2。

3.根据权利要求1所述的一种磁控溅射平面阴极装置，其特征在于：d2：d1＝1.02～1.1:1。

4.根据权利要求1所述的一种磁控溅射平面阴极装置，其特征在于：所述过渡区磁体组(6)的长度为d3；d3：d1＝0.15-0.6:1。