[发明专利]聚酰亚胺基膜及包括该聚酰亚胺基膜的柔性显示面板

权利要求书

1.一种聚酰亚胺基膜，其特征在于，通过拉曼光谱分析测量1610-1630cm^-1处的芳香族环的峰时，厚度方向上的强度的最大值和最小值之差△I为0.6以内，在所述拉曼光谱分析中，将激发波长设置为532nm，将激光光斑设置为1-2μm，将厚度方向上的测量间隔设置为1μm。

2.根据权利要求1所述的聚酰亚胺基膜，其中，所述聚酰亚胺基膜的翘曲量为5mm以下。

3.根据权利要求1所述的聚酰亚胺基膜，其中，所述聚酰亚胺基膜的根据ASTM D1746在388nm下测量的透光率为5％以上且在400-700nm下测量的全光线透光率为87％以上，雾度为2.0％以下，黄色指数为5.0以下，并且b*值为2.0以下。

4.根据权利要求1所述的聚酰亚胺基膜，其中，所述聚酰亚胺基膜的根据ASTM D882的模量为3GPa以上，断裂伸长率为8％以上。

5.根据权利要求1所述的聚酰亚胺基膜，其中，所述聚酰亚胺基膜的厚度为10-500μm。

6.根据权利要求1所述的聚酰亚胺基膜，其中，所述△I为0.4以下。

7.根据权利要求1所述的聚酰亚胺基膜，其中，所述聚酰亚胺基膜由包含聚酰胺酰亚胺结构的聚酰亚胺基树脂形成。

8.根据权利要求7所述的聚酰亚胺基膜，其中，所述聚酰亚胺基树脂包含衍生自氟基芳香族二胺的单元。

9.根据权利要求7所述的聚酰亚胺基膜，其中，所述聚酰亚胺基树脂包含衍生自脂环族二酐的单元。

10.根据权利要求7所述的聚酰亚胺基膜，其中，所述聚酰亚胺基树脂包含衍生自氟基芳香族二胺的单元、衍生自芳香族二酐的单元和衍生自芳香族二酰氯的单元。

11.根据权利要求10所述的聚酰亚胺基膜，其中，还包含衍生自脂环族二酐的单元。

12.一种窗覆盖膜，其包括：

权利要求1至11中任一项所述的聚酰亚胺基膜；以及

形成在所述聚酰亚胺基膜的一面上的涂层。

13.根据权利要求12所述的窗覆盖膜，其中，所述涂层是选自防静电层、防指纹层、防污层、防刮擦层、低折射层、防反射层和冲击吸收层中的任一种以上。

14.一种柔性显示面板，其包括权利要求1至11中任一项所述的聚酰亚胺基膜。