[发明专利]一种石墨电极焙烧圆饼表面清理设备及其实施方法在审

专利信息
申请号: 202110478631.4 申请日: 2021-04-30
公开(公告)号: CN113134478A 公开(公告)日: 2021-07-20
发明(设计)人: 郭力;施建明;乔磊;史绍磊;牛立群;赵冰 申请(专利权)人: 北京华索科技股份有限公司
主分类号: B08B1/00 分类号: B08B1/00;B08B1/02;B08B13/00
代理公司: 成都三诚知识产权代理事务所(普通合伙) 51251 代理人: 成实
地址: 100085 北京市海淀区*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 一种 石墨电极 焙烧 圆饼 表面 清理 设备 及其 实施 方法
【说明书】:

发明公开了一种石墨电极焙烧圆饼表面清理设备,其特征在于,包括若干个支撑机构(5),底面清理机构(1),顶面清理机构(2),侧面清理机构(3),以及多个驱动机构(4)。本发明同时公开了一种石墨电极焙烧圆饼表面清理设备的实施方法,包括步骤一:将石墨电极焙烧圆饼放置在支撑机构上,并通过驱动机构进行固定等步骤。本发明设置的底面清理机构、顶面清理机构、侧面清理机构、驱动机构,使用中,驱动机构可带动石墨电极焙烧圆饼转动,使底面清理机构、顶面清理机构和侧面清理机构可一次性清理掉石墨电极焙烧圆饼各面的残留物质,从而有效的解决了现有石墨电极焙烧表面清理设备不能对石墨电极焙烧圆饼的各面进行一次性清理的缺陷。

技术领域

本发明涉及电极焙烧块清理技术领域,具体是指一种石墨电极焙烧圆饼表面清理设备及其实施方法。

背景技术

石墨电极经过焙烧出炉以后,其表面会附着有残留烧结的填充料,为了清除电极表面的残留物质,目前国内大多采用人工清理模式,效率较低且工作强度较大、污染工作环境。为了解决上述问题,本行业的部分公司开发了针对长方体石墨电极焙烧表面清理设备,这种设备可通过推动电极以直线运动的方式与固定安装的刮刀产生相对运动,被动地去除掉其表面残留物质。

然而,由于现有的这种针对长方体石墨电极焙烧表面清理设备的刮刀只能做直线相对运动,不能做变向运动,在对石墨电极焙烧圆饼的清理时,只能清理掉位于刮刀直线相对运动路径上的石墨电极焙烧圆饼的残留物质,而不能一次性清理掉石墨电极焙烧圆饼各面的残留物质。因此,现有的石墨电极焙烧表面清理设备存在对石墨电极焙烧圆饼的清理效果差,和不能对不同直径规格的石墨电极焙烧圆饼进行表面清理的问题。

因此,开发一种既可一次性完成对石墨电极焙烧圆饼的各个表面进行清理,又能用于不同直径规格的石墨电极焙烧圆饼的自动化设备,便是当务之急。

发明内容

本发明的目的在于解决上述问题,提供一种既可一次性完成对石墨电极焙烧圆饼的各个表面进行清理,又能用于不同直径规格的石墨电极焙烧圆饼的石墨电极焙烧圆饼表面清理设备及其实施方法。

一种石墨电极焙烧圆饼表面清理设备,包括若干个支撑机构,底面清理机构,顶面清理机构,侧面清理机构,以及多个驱动机构;其中,所述支撑机构与驱动机构共同形成圆饼夹持件,其中,驱动机构用于带动被夹持的圆饼转动;所述底面清理机构包括第一支架,第二支架,设置在第一支架上的底面液压缸,设置在第二支架上并与底面液压缸的活塞杆连接的底面平移滑动装置,设置在底面平移滑动装置上的底面刮刀机体,设置在底面刮刀机体内的底面垂直升降装置,以及设置在底面垂直升降装置上的底面刮刀。

进一步的,所述底面平移滑动装置包括对称设置在第二支架的两根底面平移滑轨,和通过多组滑动件设置在两根底面平移滑轨上的底面移动架;每组滑动件由两块底面平移滑块组成,两块底面平移滑块对称设置在底面移动架的两侧壁上;所述底面液压缸的活塞杆通过底面连接座与底面移动架连接,所述底面刮刀机体安装在底面移动架上。

优选的,所述底面清理垂直升降装置包括底面升降电机,对称设置在底面刮刀机体的内壁上的两根底面垂直滑轨,通过两块底面垂直滑块横跨在两根底面垂直滑轨上的底面推座,通过两块底面垂直滑块横跨在两根底面垂直滑轨上且位于底面推座上方的底面刀座,以及一端与底面升降电机的转轴固定连接、另一端穿过底面推座并与底面推座螺纹连接的底面丝杠;所述底面刮刀通过底面刀架垂直安装在底面刀座上;所述底面刀座通过底面缓冲装置与底面推座柔性连接,该底面缓冲装置包括一端固定在底面刀座上、另一端穿过底面推座并能上下运动的底面弹簧定位杆,和套在底面弹簧定位杆上的底面缓冲弹簧,所述底面缓冲弹簧的一端与底面弹簧定位杆的安装板连接、另一端与底面推座的连接;所述底面刮刀机体的顶部设置有具有条形通孔的盖板;所述底面刀架伸出盖板的条形通孔并能沿条形通孔的孔壁自由滑动,在伸出盖板的条形通孔的底面刀架上套有底面刀架密封盖,所述底面刀架密封盖固定在盖板上。

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