[发明专利]一种氢氰酸制造羟基乙腈均匀分流的降膜反应器在审

专利信息
申请号: 202110480384.1 申请日: 2021-04-30
公开(公告)号: CN112958031A 公开(公告)日: 2021-06-15
发明(设计)人: 秦中贤 申请(专利权)人: 重庆山巨化工机械股份有限公司
主分类号: B01J19/24 分类号: B01J19/24;B01J10/00;C07C255/16;C07C253/00
代理公司: 重庆强大凯创专利代理事务所(普通合伙) 50217 代理人: 廖龙春
地址: 401147 重庆市渝北区*** 国省代码: 重庆;50
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摘要:
搜索关键词: 一种 氢氰酸 制造 羟基 均匀 分流 反应器
【权利要求书】:

1.一种氢氰酸制造羟基乙腈均匀分流的降膜反应器,包括塔体,塔体上从上至下依次设有进气口、进液口、出气口和出液口,塔体内位于进液口和出气口之间还设有上管板和下管板,上管板和下管板上均设有通孔,上管板和下管板相对的通孔之间固定有降膜管,还包括插入降膜管内的降膜头,其特征在于:降膜头上设有与降膜管固定的固定件;进液口设置有偶数个,且进液口沿着塔体周向均匀分布,相对的两个进液口通过一根导流管连通,且导流管上连通有进液管;上管板上设有多个位于靠近进液口的导流凸起,进液口的数量与导流凸起的数量一致。

2.根据权利要求1所述的一种氢氰酸制造羟基乙腈均匀分流的降膜反应器,其特征在于:所述上管板上固定有环形的分布板,导流凸起均位于分布板的外圈,降膜管位于分布板内圈。

3.根据权利要求2所述的一种氢氰酸制造羟基乙腈均匀分流的降膜反应器,其特征在于:所述分布板的顶部设有多个锯齿型槽。

4.根据权利要求3所述的一种氢氰酸制造羟基乙腈均匀分流的降膜反应器,其特征在于:还包括位于分布板内圈的挡流环,挡流环底部与上管板之间形成流道,挡流环外圈和分布板内圈之间固定有连接杆,挡流环包裹所有的降膜管。

5.根据权利要求1-4任意一项所述的一种氢氰酸制造羟基乙腈均匀分流的降膜反应器,其特征在于:所述导流凸起呈弧形,且导流凸起的内弧面朝向分布板。

6.根据权利要求5所述的一种氢氰酸制造羟基乙腈均匀分流的降膜反应器,其特征在于:所述固定件包括多个沿降膜头周向分布的固定块,固定块的自由端向下弯折,且固定块的弯折部分卡入降膜上。

7.根据权利要求6所述的一种氢氰酸制造羟基乙腈均匀分流的降膜反应器,其特征在于:所述降膜头的底部呈圆台状,且降膜头底端与降膜管内壁之间留有间隙。

8.根据权利要求7所述的一种氢氰酸制造羟基乙腈均匀分流的降膜反应器,其特征在于:所述上管板上沿周向均匀分布有导流通道,导流通道沿流道向上管板中部方向设置。

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