[发明专利]一种氢氰酸制造羟基乙腈均匀分流的降膜反应器在审
申请号: | 202110480384.1 | 申请日: | 2021-04-30 |
公开(公告)号: | CN112958031A | 公开(公告)日: | 2021-06-15 |
发明(设计)人: | 秦中贤 | 申请(专利权)人: | 重庆山巨化工机械股份有限公司 |
主分类号: | B01J19/24 | 分类号: | B01J19/24;B01J10/00;C07C255/16;C07C253/00 |
代理公司: | 重庆强大凯创专利代理事务所(普通合伙) 50217 | 代理人: | 廖龙春 |
地址: | 401147 重庆市渝北区*** | 国省代码: | 重庆;50 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 氢氰酸 制造 羟基 均匀 分流 反应器 | ||
1.一种氢氰酸制造羟基乙腈均匀分流的降膜反应器,包括塔体,塔体上从上至下依次设有进气口、进液口、出气口和出液口,塔体内位于进液口和出气口之间还设有上管板和下管板,上管板和下管板上均设有通孔,上管板和下管板相对的通孔之间固定有降膜管,还包括插入降膜管内的降膜头,其特征在于:降膜头上设有与降膜管固定的固定件;进液口设置有偶数个,且进液口沿着塔体周向均匀分布,相对的两个进液口通过一根导流管连通,且导流管上连通有进液管;上管板上设有多个位于靠近进液口的导流凸起,进液口的数量与导流凸起的数量一致。
2.根据权利要求1所述的一种氢氰酸制造羟基乙腈均匀分流的降膜反应器,其特征在于:所述上管板上固定有环形的分布板,导流凸起均位于分布板的外圈,降膜管位于分布板内圈。
3.根据权利要求2所述的一种氢氰酸制造羟基乙腈均匀分流的降膜反应器,其特征在于:所述分布板的顶部设有多个锯齿型槽。
4.根据权利要求3所述的一种氢氰酸制造羟基乙腈均匀分流的降膜反应器,其特征在于:还包括位于分布板内圈的挡流环,挡流环底部与上管板之间形成流道,挡流环外圈和分布板内圈之间固定有连接杆,挡流环包裹所有的降膜管。
5.根据权利要求1-4任意一项所述的一种氢氰酸制造羟基乙腈均匀分流的降膜反应器,其特征在于:所述导流凸起呈弧形,且导流凸起的内弧面朝向分布板。
6.根据权利要求5所述的一种氢氰酸制造羟基乙腈均匀分流的降膜反应器,其特征在于:所述固定件包括多个沿降膜头周向分布的固定块,固定块的自由端向下弯折,且固定块的弯折部分卡入降膜上。
7.根据权利要求6所述的一种氢氰酸制造羟基乙腈均匀分流的降膜反应器,其特征在于:所述降膜头的底部呈圆台状,且降膜头底端与降膜管内壁之间留有间隙。
8.根据权利要求7所述的一种氢氰酸制造羟基乙腈均匀分流的降膜反应器,其特征在于:所述上管板上沿周向均匀分布有导流通道,导流通道沿流道向上管板中部方向设置。
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