[发明专利]柔性防静电减反射光学膜、防静电减反涂液及制备方法有效

专利信息
申请号: 202110480817.3 申请日: 2021-04-30
公开(公告)号: CN113064226B 公开(公告)日: 2023-05-12
发明(设计)人: 彭锦 申请(专利权)人: 宁波甬安光科新材料科技有限公司
主分类号: G02B1/16 分类号: G02B1/16;G02B1/111;G02B1/14;G02B1/18;C09D5/24;C09D175/14
代理公司: 宁波方向同行专利商标代理事务所(普通合伙) 33497 代理人: 汪建华
地址: 315000 浙江省宁波市*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 柔性 静电 反射 光学 减反涂液 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种柔性防静电减反射光学膜的制备方法,其特征在于,包括:

在柔性基底的至少一侧表面上涂布防静电减反涂液,所述防静电减反涂液仅涂布一层;再经紫外辐射固化后得到具有单层涂膜层的柔性防静电减反射光学膜;

所述防静电减反涂液包括UV固化树脂、中空有机硅纳米粒子、防静电剂、溶剂、润湿流平剂和光引发剂;各组分按重量单位分别为:

UV固化树脂:0.5-1.5,中空有机硅纳米粒子:1.0-3.5,防静电剂:1-2.5,溶剂:92-98,润湿流平剂:0.05-0.15,光引发剂:0.05-0.15;

其中,所述UV固化树脂选自脂肪族聚氨酯丙烯酸酯,并包括至少一种中官能度树脂和至少一种高官能度树脂;所述高官能度树脂为官能度为8以上的树脂,中官能度树脂为官能度为4-7的树脂;

所述中空有机硅纳米粒子折射率为1.10-1.45,中空有机硅纳米粒子粒径在30-200nm之间;

所述防静电剂为导电化合物,所述溶剂为混合溶剂,选自甲苯、二甲苯、乙酸乙酯、乙酸丁酯、乙酸异丁酯、乙酸丙酯、乙醇、异丙醇、异丁醇、丙酮、丁酮、甲基异丁酮、异佛尔酮、丙二醇甲醚和丙二醇丁醚中的至少两种;

所述光引发剂选自1-羟基环己基苯基甲酮、2-甲基-1-(4-甲硫基苯基)-2-吗啉-1-丙酮、双官能团α-羟基酮、2-羟基-甲基苯基丙烷-1-酮、2,4,6-三甲基苯甲酰基-二苯基氧化膦或苯基双(2,4,6-三甲基苯甲酰基)氧化膦中的至少一种;

所述润湿流平剂选自羟基聚醚型有机硅增滑剂、大分子聚醚改性丙烯酸酯表面助剂、聚醚改性二甲基聚硅氧烷有机硅表面助剂、聚丙烯酸酯型流平助剂、环氧苯基乙烯基硅烷齐聚物、短链的全氟化含氟表面活性剂、溶剂型氟化聚合物的一种或多种。

2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述UV固化树脂还包括低官能度脂肪族聚氨酯丙烯酸酯树脂,低官能度树脂是指官能度为1-3的树脂;所述涂膜层厚度为50-400nm;

所述柔性基底为PET薄膜、TAC薄膜、PC薄膜、PMMA薄膜、PE薄膜或PI薄膜;

涂布方式为卷对卷涂布方式;

固化条件为:线速度为15-35m/min,预烘干烘箱温度为50-80℃,预烘干时间为0.5-1min,紫外固化的能量密度为350-800mJ/cm2,功率密度为40-80mW/cm2

3.根据权利要求2所述的方法,其特征在于,所述涂膜层厚度为100-160nm;

所述柔性基底为PET薄膜或TAC薄膜;

涂布方式选用凹版辊涂头或狭缝涂头。

4.根据权利要求1-3任一项所述的方法,其特征在于,所述UV固化树脂为聚氨酯丙烯酸酯;

中空有机硅纳米粒子粒径在40-200nm之间;

所述防静电剂选自三正辛基甲基铵双(三氟甲烷磺酰)亚胺盐、锂离子化合物、双(多卤代烷基磺酰基)亚胺四烷基膦盐中的至少一种;

所述润湿流平剂为含氟表面活性剂和聚丙烯酸酯型流平助剂中的至少一种。

5.根据权利要求4所述的方法,其特征在于,所述中空有机硅纳米粒子粒径在50-100nm之间。

6.根据权利要求4所述的方法,其特征在于,所述防静电减反涂液是按以下步骤制备的:

(1)配置溶剂A:配置溶剂A使其为混合溶剂,溶剂A选自上述溶剂中的至少两种;将溶剂A各组分混合均匀,并在室温下搅拌混合;

(2)配置树脂分散液B:将选自上述UV固化树脂中至少一种的UV固化树脂混合均匀,加入适量溶剂A,在室温下搅拌混合均匀;

(3)配置防静电减反涂液:将树脂分散液B、溶剂A与中空有机硅纳米粒子,在室温下搅拌混合均匀;加入防静电剂后继续搅拌,防静电剂选自上述防静电剂中的至少一种;加入润湿流平剂后继续搅拌,润湿流平剂选自上述润湿流平剂中的至少一种,再加入光引发剂,光引发剂选自上述光引发剂中的至少一种,搅拌后过滤即得所述防静电减反涂液。

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