[发明专利]一种具有火山口状阵列的微纳结构及其制备方法和应用

权利要求书

1.一种具有火山口状阵列的微纳结构，其特征在于：其包括基底和分布在所述基底上的若干个复合结构单元，所述复合结构单元包括实心圆台本体，所述实心圆台本体的上底面开设有盲孔。

2.根据权利要求1所述的一种具有火山口状阵列的微纳结构，其特征在于：所述若干个复合结构单元呈行列矩阵排列的方式或错位排列的方式分布在所述基底上。

3.根据权利要求2所述的一种具有火山口状阵列的微纳结构，其特征在于：相邻的复合结构单元的间距为0。

4.根据权利要求1所述的一种具有火山口状阵列的微纳结构，其特征在于：所述盲孔包括一具有圆形开口的空腔，所述空腔为柱形空腔、圆台形空腔和倒圆台形空腔中的其中一种、两种或多种，所述空腔的圆形开口的直径为50-80微米，所述空腔的高度为30-50微米。

5.根据权利要求1所述的一种具有火山口状阵列的微纳结构，其特征在于：所述实心圆台本体的高度为200-400微米，下底面的直径为200-250微米，上底面直径为80-100微米。

6.根据权利要求1所述的一种具有火山口状阵列的微纳结构，其特征在于：所述基底是平面基底或曲面基底。

7.根据权利要求1所述的一种具有火山口状阵列的微纳结构，其特征在于：所述复合结构单元的材料为金属材料。

8.根据权利要求1所述的一种具有火山口状阵列的微纳结构，其特征在于：所述复合结构单元的材料为合金材料。

9.根据权利要求1所述的一种具有火山口状阵列的微纳结构，其特征在于：所述微纳结构应用于低温环境中。

10.一种权利要求1-9任一所述的一种具有火山口状阵列的微纳结构的制备方法，其特征在于：包括以下步骤：

步骤一：对基底的表面进行清洗，得到洁净的基底；

步骤二：将所述基底分为若干个单位区域，所述单位区域的内包括同心的所述实心圆台本体的上底面和下底面的圆，采用激光器在单位区域中对除了实心圆台本体的上底面的圆以外的区域进行扫描加工，形成实心圆台本体的上底面；

步骤三：降低所述激光器的扫描加工速度，采用激光器在单位区域中对除了实心圆台本体的下底面的圆以外的区域进行扫描加工，形成实心圆台本体的台体；

步骤四：采用激光器对形成的实心圆台本体的上底面的圆心进行单点加工，形成盲孔；

步骤五：在各个单位区域中重复上述步骤二至步骤四，从而在所述基底上形成若干个复合结构单元。