[发明专利]一种非熔融超晶格相变薄膜材料在审

专利信息
申请号: 202110484811.3 申请日: 2021-04-30
公开(公告)号: CN113346012A 公开(公告)日: 2021-09-03
发明(设计)人: 程晓敏;张博凯;缪向水 申请(专利权)人: 华中科技大学
主分类号: H01L45/00 分类号: H01L45/00
代理公司: 武汉华之喻知识产权代理有限公司 42267 代理人: 彭翠;曹葆青
地址: 430074 *** 国省代码: 湖北;42
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 熔融 晶格 相变 薄膜 材料
【权利要求书】:

1.一种非熔融超晶格相变薄膜材料,其特征在于:包括相变层和钉扎层,所述相变层和钉扎层交替堆叠形成周期性结构,所述相变层采用GeTe材料,所述钉扎层采用TiTe2材料;

工作时,在所述相变层开始发生非熔融相变时,所述钉扎层不会发生相变,以提高所述钉扎层在相变过程中的稳定性。

2.根据权利要求1所述的非熔融超晶格相变薄膜材料,其特征在于:单层钉扎层的晶体结构为至少两层TiTe2

3.根据权利要求1或2所述的非熔融超晶格相变薄膜材料,其特征在于:单层相变层的晶体结构为三层GeTe晶格。

4.根据权利要求3所述的非熔融超晶格相变薄膜材料,其特征在于:所述三层GeTe晶格由上至下或由下至上有四种点阵排列方式,分别为Ge-Te-Ge-Te-Ge-Te、Ge-Te-Ge-Te-Te-Ge、Ge-Te-Te-Ge-Ge-Te和Te-Ge-Ge-Te-Ge-Te。

5.根据权利要求4所述的非熔融超晶格相变薄膜材料,其特征在于:在所述相变层发生非熔融相变过程中,所述三层GeTe晶格在所述四种点阵排列方式之间转变,使得所述非熔融超晶格相变薄膜材料形成四种不同晶体结构。

6.根据权利要求5所述的非熔融超晶格相变薄膜材料,其特征在于:所述四种不同晶体结构的晶体常数a、b分别为其晶体常数c为或

7.根据权利要求4所述的非熔融超晶格相变薄膜材料,其特征在于:在所述相变层发生非熔融相变过程中,所述三层GeTe晶格在Ge-Te-Ge-Te-Ge-Te和Te-Ge-Ge-Te-Ge-Te这两种点阵排列方式之间转变。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于华中科技大学,未经华中科技大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202110484811.3/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top