[发明专利]烧结体的制造方法及溅射靶的制造方法

说明书

本发明的目的在于提供一种能够容易地制造龟裂得到抑制的烧结体的烧结体的制造方法及溅射靶的制造方法。本发明的一实施方式的烧结体的制造方法包括：形成包含金属粉末及金属氧化物粉末的原料粉末的造粒物的步骤、以及对所述造粒物进行煅烧的步骤，所述原料粉末包含Mn、Cu及Zn作为金属元素，所述原料粉末中的所述金属粉末的体积比率为28.0体积％以上，所述煅烧步骤中的烧结压力为20MPa以上。

技术领域

本发明涉及一种烧结体的制造方法及溅射靶的制造方法。

背景技术

例如，数字通用光盘(digital versatile disc，DVD)、蓝光光盘(blu-ray disc，BD)等光盘被广泛用作光信息记录介质。所述光信息记录介质根据记录再现方式而分为再现专用型、追记型及改写型此三种。另外，作为所述追记型的记录方式，例如可采用(i)使记录层的构成材料发生相变的相变方式、(ii)使多个记录层发生层间反应的层间反应方式、(iii)使记录层的构成材料发生分解的分解方式等。

作为追记型的光信息记录介质中的记录层的构成材料，以往广泛使用有机色素材料。另一方面，近年来，由于记录的高密度化的要求等，作为所述构成材料，逐渐使用无机材料。

作为使用无机材料的记录层的制造方法，可采用使用与记录层为相同材料的溅射靶的溅射法。作为适合于记录层的制造的溅射靶，提出了Mn-Zn-O系溅射靶(参照日本专利特开2017-88932号公报)。

在利用溅射法来制造记录层时，就所获得的记录层的特性的稳定化、或记录层的制造效率的提高等观点而言，重要的是防止溅射靶的龟裂。

例如在日本专利特开2016-176114号公报中记载了通过控制Mn氧化物相、Zn₂Mo₃O₈相的相分率来提高Mn-Zn-Mo-O系的溅射靶的耐龟裂性的技术，在日本专利特开2016-138312号公报中记载了通过控制Mn氧化物相、WMnO₄相的相分率来提高Mn-Zn-W-O系的溅射靶的耐龟裂性的技术。

[现有技术文献]

[专利文献]

[专利文献1]日本专利特开2017-88932号公报

[专利文献2]日本专利特开2016-176114号公报

[专利文献3]日本专利特开2016-138312号公报

发明内容

[发明所要解决的问题]

然而，若要如专利文献2及专利文献3所公开的那样，通过控制结晶相的相分率来防止溅射靶的龟裂，则形成烧结体的步骤及其前后的步骤中的制造条件的制约变大，并且制造成本变高。

本发明是鉴于所述情况而成，其目的在于提供一种能够容易地制造龟裂得到抑制的烧结体的烧结体的制造方法、及可容易地制造龟裂得到抑制的溅射靶的溅射靶的制造方法。

[解决问题的技术手段]

本发明的一实施方式的烧结体的制造方法包括：形成包含金属粉末及金属氧化物粉末的原料粉末的造粒物的步骤、以及对所述造粒物进行煅烧的步骤，所述原料粉末包含Mn、Cu及Zn作为金属元素，所述原料粉末中的所述金属粉末的体积比率为28.0体积％以上，所述煅烧步骤中的烧结压力为20MPa以上。

所述烧结体的制造方法中，通过所述原料粉末包含Mn、Cu及Zn作为金属元素，且所述原料粉末中的所述金属粉末的体积比率为所述下限以上，即使不严格控制结晶相的相分率，也可通过在所述烧结压力下进行煅烧来容易地制造龟裂得到抑制的烧结体。