[发明专利]一种半导体制程批间控制系统的控制性能诊断方法有效
申请号: | 202110491048.7 | 申请日: | 2021-05-06 |
公开(公告)号: | CN113189967B | 公开(公告)日: | 2022-05-27 |
发明(设计)人: | 凌丹;栗朝松;王妍;孙军伟;王英聪;郭群力;王延峰;张勋才;刘鹏;姜素霞 | 申请(专利权)人: | 郑州轻工业大学 |
主分类号: | G05B23/02 | 分类号: | G05B23/02 |
代理公司: | 郑州优盾知识产权代理有限公司 41125 | 代理人: | 张真真 |
地址: | 450000 河南省郑州*** | 国省代码: | 河南;41 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 半导体 制程批间 控制系统 控制 性能 诊断 方法 | ||
1.一种半导体制程批间控制系统的控制性能诊断方法,其特征在于,其步骤如下:
S1、获取半导体制程中的EWMA批间控制系统的N组历史正常工况的输入数据和输出数据作为样本数据,将样本数据划分为S+1个窗口,利用第一个窗口的输入数据和输出数据计算基准工况白噪声估计值εr和基准工况扰动模型估计值获取过程-扰动联合模型残差e(t)、过程数据集和输出数据集Y10,并根据过程数据集获得基准工况的矩阵X1,根据输出数据集Y10获得基准工况的矩阵Y1,构建Hankel矩阵Xp和Xf以及投影矩阵Jq;
S2、利用第k'个窗口的输入数据和输出数据构建过程数据集和输出数据集根据过程数据集获得实际工况的矩阵Xk',根据输出数据集获得实际工况的矩阵Yk',采用典型变量分析方法获取第k'个窗口对应的EWMA批间控制系统的控制性能监控量其中,k'=2,3,…,S+1;
S3、根据步骤S1中的基准工况扰动模型估计值第k'个窗口的输入数据和输出数据获取基准工况模型残差vr,k'(t)和模型失配/扰动动态性联合监控量
S4、利用第k'个窗口的输入数据和输出数据获取第k'个窗口对应的实际工况白噪声估计值εh,k'(t)和实际工况扰动模型估计值并根据实际工况扰动模型估计值获取实际工况模型残差vh,k'(t);
S5、根据步骤S1中的基准工况白噪声估计值εr和步骤S4中的实际工况白噪声估计值εh,k'(t)计算干扰特征监控量根据步骤S3中的基准工况模型残差vr,k'(t)和步骤S4中的实际工况模型残差vh,k'(t)计算扰动模型监控量根据步骤S4中的实际工况白噪声估计值εh,k'(t)和实际工况模型残差vh,k'(t)获取模型失配监控量
S6、采用核密度估计方法分别获取控制性能监控量的控制上限UPCPI、模型失配/扰动动态性联合监控量的控制上限UPPDMI、干扰特征监控量的控制上限UPDVI、干扰特征监控量的控制下限LPDVI、扰动模型监控量的控制下限LPDMI以及模型失配监控量的控制上限UPPMI;
S7、在线采集半导体制程的EWMA批间控制系统的N1组输入数据和输出数据,并获取当前工况的控制性能监控量ηCPI,根据步骤S6中的控制上限UPCPI,实时判断闭环系统的控制性能是否下降;
S8、若控制性能监控量ηCPI大于控制性能监控量的控制上限UPCPI,EWMA批间控制系统的性能下降,执行步骤S9,否则,EWMA批间控制系统的性能良好;
S9、利用步骤S1中的基准工况扰动模型估计值步骤S7中的N1组输入数据和输出数据获取当前工况的模型失配/扰动动态性联合监控量ηPDMI;
S10、若模型失配/扰动动态性联合监控量ηPDMI大于步骤S6中的模型失配/扰动动态性联合监控量的控制上限UPPDMI,模型失配或扰动动态性导致EWMA批间控制系统的性能下降,执行步骤S11,否则,控制器参数改变导致EWMA批间控制系统的性能下降;
S11、计算当前工况的干扰特征监控量ηDVI、扰动模型监控量ηDMI和模型失配监控量ηPMI;当前工况的干扰特征监控量ηDVI大于步骤S6中的干扰特征监控量的控制上限UPDVI或小于干扰特征监控量的控制下限LPDVI时,干扰特征改变导致EWMA批间控制系统的性能下降;当扰动模型监控量ηDMI小于扰动模型监控量的控制下限LPDMI时,扰动模型改变导致EWMA批间控制系统的性能下降;当模型失配监控量ηPMI大于模型失配监控量的控制上限UPPMI时,模型失配导致EWMA批间控制系统的性能下降。
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