[发明专利]一种高屈服应力陶瓷材料3D打印坯体用清洗液及其制备方法与应用有效
申请号: | 202110492415.5 | 申请日: | 2021-05-06 |
公开(公告)号: | CN113234549B | 公开(公告)日: | 2022-03-11 |
发明(设计)人: | 邢占文;李文利;刘卫卫 | 申请(专利权)人: | 苏州大学 |
主分类号: | C11D7/26 | 分类号: | C11D7/26;C11D7/32;C11D3/37;C11D7/60;B08B3/08;B08B3/12;B08B3/02 |
代理公司: | 苏州创元专利商标事务所有限公司 32103 | 代理人: | 孙周强;陶海锋 |
地址: | 215137 *** | 国省代码: | 江苏;32 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 屈服 应力 陶瓷材料 打印 体用 清洗 及其 制备 方法 应用 | ||
本发明公开了一种高屈服应力陶瓷材料3D打印坯体用清洗液及其制备方法与应用,该清洗液由清洗主剂与清洗助剂组成;清洗主剂为丙烯酸异冰片酯(IBOA)、N‑丙烯酰吗啉(ACMO)、甲基丙烯酸羟乙酯(HEMA)、3‑乙基‑3‑羟甲基氧杂环丁烷(EHO)中一种或几种的组合。本发明的清洗液采用超声清洗或者压力喷淋,有效地解决了高屈服应力陶瓷材料3D打印坯体的清洗问题。本发明不仅清洗简便,而且效果好、效率高。
技术领域
本发明涉及增材制造(3D打印)技术领域,具体涉及一种用于高屈服应力陶瓷材料3D打印坯体的清洗液及其制备方法。
背景技术
陶瓷立体光刻3D打印原理是将包含陶瓷粉、UV单体和/或齐聚物、分散剂、光引发剂、以及其他助剂的打印材料铺展成薄层,紫外激光根据该层的切片模型选择性固化该层,扫描完成后,重复以上步骤,直至零件打印完成。陶瓷立体光刻3D打印技术因可制备表面光洁度高、显微结构均匀、力学性能优异的复杂形状陶瓷部件而成为陶瓷3D打印领域的典型技术。陶瓷立体光刻3D打印在复杂结构陶瓷零件构建方面极具优势,尤其是高屈服应力为零件添加非接触支撑以保证零件的表面质量,但缺点是零件表面及复杂结构内部的高屈服应力陶瓷材料难以去除,清洗困难,特别是微/多孔复杂结构,现有技术无法提供有效的清洗方案。
发明内容
为解决上述技术问题,本发明提出了一种用于高屈服应力陶瓷材料3D打印坯体的清洗液及制备方法,进一步的公开了利用该清洗液清洗高屈服应力陶瓷材料3D打印坯体的方法。本发明的清洗液与高屈服应力陶瓷材料接触作用时破坏其空间立体网状结构,使原本限制于立体网状结构中的组分能够流动,从而实现达到高屈服应力陶瓷材料便于从3D打印坯体表面据及内部结构清除的目的。
为达到上述目的,本发明的技术方案如下:
一种高屈服应力陶瓷材料3D打印坯体用清洗液,由清洗主剂与清洗助剂组成;清洗主剂为丙烯酸异冰片酯(IBOA)、N-丙烯酰吗啉(ACMO)、甲基丙烯酸羟乙酯(HEMA)、3-乙基-3-羟甲基氧杂环丁烷(EHO)中一种或几种的组合。
本发明还提出了上述高屈服应力陶瓷材料3D打印坯体用清洗液的制备方法,在常温下,将清洗主剂与清洗助剂混合,得到高屈服应力陶瓷材料3D打印坯体用清洗液。
本发明高屈服应力陶瓷材料3D打印坯体用清洗液中,清洗助剂的重量为清洗主剂重量的0~3%,且不包括0;优选的,清洗助剂的重量为清洗主剂重量的0.4~1.5%,最优选0.6~0.9%。
进一步地,所述清洗助剂为Dispers 750W、Dispers 655、Tego 688、Tego 755中一种或几种的组合。
本发明利用高屈服应力陶瓷材料3D打印坯体用清洗液,采用喷淋或者超声的方法进行清洗。具体的,超声清洗方式时,将高屈服应力陶瓷材料3D打印坯体用清洗液置入超声波清洗设备中,再将高屈服应力陶瓷材料3D打印坯体浸入清洗液,开启超声波进行清洗;喷淋清洗方式时,将高屈服应力陶瓷材料3D打印坯体置于清洗槽或清洗台上,采用装有清洗液的气液混合喷枪进行压力喷淋。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于苏州大学,未经苏州大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202110492415.5/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。