[发明专利]一种超宽频带平面波生成系统

权利要求书

1.一种超宽频带平面波生成系统，其特征在于：所述系统由一个反射式紧缩场和一个天线阵列式平面波生成器组成；反射式紧缩场覆盖高频段，天线阵列式平面波生成器覆盖低频段；高频段和低频段的划分由反射式紧缩场的反射面的尺寸决定，划分频率的波长等于反射面在反射面口面处的投影面积开根号得到的长度的1/10～1/20，当频率的波长低于划分频率的波长为高频段，当频率的波长高于划分频率的波长为低频段；

反射式紧缩场覆盖高频段，直至受反射面形面精度所限达到整个系统的最高工作频率；天线阵列式平面波生成器覆盖低频段，使得能够实现超宽频带平面波生成；天线阵列式平面波生成器口面面积小于等于反射面投影面积的1.5倍，天线阵列式平面波生成器的静区尺寸为反射式紧缩场静区尺寸的0.5～1倍；

所述反射式紧缩场反射面在反射面口面处的投影面中心距离静区中心为反射面投影面积开根号得到长度的1.5～2.5倍；天线阵列式平面波生成器中心距离静区中心为其口面面积开根号得到的长度的1.2～2.5倍；

所述反射式紧缩场和天线阵列式平面波生成器的静区中心重合。

2.根据权利要求1所述超宽频带平面波生成系统，其特征在于：所述反射式紧缩场是旋转抛物面单反射面紧缩场或多反射面紧缩场，反射式紧缩场馈源位置是正馈或角馈。

3.根据权利要求1所述超宽频带平面波生成系统，其特征在于：所述反射式紧缩场和天线阵列式平面波生成器的布局方式为两种，一种是反射式紧缩场投影面法线和天线阵列式平面波生成器口面法线互相垂直的；另一种是反射式紧缩场和天线阵列式平面波生成器相互正对的；两种布局方式中，静区中心位置均重合，测量过程中能共用同一个转台系统。

4.根据权利要求1所述超宽频带平面波生成系统，其特征在于：所述反射式紧缩场和天线阵列式平面波生成器均布置于同一个暗室空间内，显著提升暗室利用效率。

5.根据权利要求4所述超宽频带平面波生成系统，其特征在于：所述暗室是标准矩形，或是异形便于安装天线阵列式平面波生成器，节省空间，增加暗室空间利用率。

6.根据权利要求1所述超宽频带平面波生成系统，其特征在于：所述反射式紧缩场和天线阵列式平面波生成器能够同时工作，工作频率不同，互相不干扰，显著提升测量效率。

7.根据权利要求1所述超宽频带平面波生成系统，其特征在于：所述天线阵列式平面波生成器是平面阵列或是非平面阵列。