[发明专利]一种均热板的盖板制作方法及均热板的制作方法

权利要求书

1.一种均热板的盖板制作方法，所述盖板的第一表面包括用于形成气槽的气槽区以及用于形成液槽的液槽区，其特征在于，所述方法包括以下步骤：

在所述盖板的第一表面上覆盖光阻膜；

对所述光阻膜进行曝光和显影，使所述光阻膜上对应所述气槽区的位置形成第一镂空图案，并在光阻膜上对应所述液槽区的位置形成第二镂空图案，所述第一镂空图案将所述气槽区对应的光阻膜分割为多个第一光阻块，所述第二镂空图案将所述液槽区对应的光阻膜分割为多个第二光阻块，且所述第一光阻块的覆盖面积小于所述第二光阻块的覆盖面积；

对所述盖板进行蚀刻，使所述第一表面对应所述第一镂空图案和第二镂空图案的区域腐蚀形成沟槽，使所述第一表面对应所述第一光阻块的区域形成第一凸起，使所述第一表面对应所述第二光阻块的区域形成第二凸起，进一步蚀刻，使所述第一凸起通过侧蚀作用去除，以使所述气槽区整体凹陷形成气槽，并使所述第二凸起保留，以使相邻两所述第二凸起之间形成液槽。

2.根据权利要求1所述的均热板的盖板制作方法，其特征在于，所述气槽区和所述液槽区沿第一方向排列，所述第一光阻块沿所述第一方向的宽度为d₁，所述第二光阻块沿所述第一方向的宽度为d₂，d₁＜d₂。

3.根据权利要求2所述的均热板的盖板制作方法，其特征在于，所述d₁的取值范围为30μm～80μm。

4.根据权利要求1所述的均热板的盖板制作方法，其特征在于，相邻两所述第一光阻块之间的间距大于或等于相邻两所述第二光阻块之间的间距。

5.根据权利要求4所述的均热板的盖板制作方法，其特征在于，相邻两所述第二光阻块之间的间距为10μm～200μm。

6.根据权利要求1～5中任一项所述的均热板的盖板制作方法，其特征在于，所述第一光阻块和所述第二光阻块均为矩形，且多个所述第一光阻块均匀分布于所述气槽区，多个所述第二光阻块均匀分布于所述液槽区。

7.根据权利要求1～5中任一项所述的均热板的盖板制作方法，其特征在于，所述盖板的第一表面还包括过渡区，所述过渡区位于所述气槽区和所述液槽区之间，对所述光阻膜进行曝光和显影还包括：

使所述光阻膜上对应所述过渡区的位置形成第三镂空图案，所述第三镂空图案将所述过渡区对应的光阻膜分割为多个第三光阻块，所述第三光阻块的覆盖面积大于所述第一光阻块的覆盖面积且小于所述第二光阻块的覆盖面积；

所述对所述盖板进行蚀刻还包括：

使所述第一表面对应所述第三镂空图案的区域腐蚀形成沟槽，使所述第一表面对应所述第三光阻块的区域形成第三凸起，进一步蚀刻，使所述第三凸起保留，以使所述第三凸起形成过渡台阶。

8.根据权利要求7所述的均热板的盖板制作方法，其特征在于，所述气槽区、所述过渡区和所述液槽区沿第一方向依次排列，所述第一凸起沿所述第一方向的宽度为d₁，所述第二凸起沿所述第一方向的宽度为d₂，所述第三凸起沿所述第一方向的宽度为d₃，d₁＜d₃＜d₂。

9.根据权利要求1～5中任一项所述的均热板的盖板制作方法，其特征在于，所述光阻膜为正向光阻材料，所述对所述光阻膜进行曝光具体包括：

将所述光阻膜上对应所述第一镂空图案和所述第二镂空图案的部分进行曝光，

所述对所述光阻膜进行显影具体包括：

将所述光阻膜中被曝光的部分溶解于显影液中。