[发明专利]基板处理装置

权利要求书

1.一种基板处理装置，其特征在于，

该基板处理装置具备：

基板出入部，其从外部接收第1状态的基板，并向外部送出第2状态的基板；

第1群组的处理部，其包括进行互不相同的处理的两个处理部，对所述第1状态的基板进行用于将所述第1状态变为所述第2状态的一系列的处理；

第2群组的处理部，其包括进行互不相同的处理的两个处理部，对所述第1状态的基板进行与由所述第1群组的处理部进行的一系列的处理同样的一系列的处理；

第1输送部，其从所述基板出入部向所述第1群组的处理部输送所述第1状态的基板，并从所述第1群组的处理部向所述基板出入部输送利用所述第1群组的处理部而成为了所述第2状态的基板；以及

第2输送部，其从所述基板出入部向所述第2群组的处理部输送所述第1状态的基板，并从所述第2群组的处理部向所述基板出入部输送利用所述第2群组的处理部而成为了所述第2状态的基板。

2.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，

所述第1群组的处理部包括也属于所述第2群组的处理部的共用处理部和不属于所述第2群组的处理部的独立处理部，

所述共用处理部的生产率比所述独立处理部的生产率大。

3.根据权利要求2所述的基板处理装置，其特征在于，

所述共用处理部包括进行由所述第1输送部输送的基板的检查和由所述第2输送部输送的基板的检查的检查单元。

4.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，

所述第1群组的处理部包括也属于所述第2群组的处理部的第1共用处理部，

所述第1共用处理部包括：

第1保持单元，其保持由所述第1输送部输送的基板；

第2保持单元，其在水平方向上配置于与所述第1保持单元的位置不同的位置，保持由所述第2输送部输送的基板；以及

供液单元，其能够向保持于所述第1保持单元的基板和保持于所述第2保持单元的基板供给处理液。

5.根据权利要求4所述的基板处理装置，其特征在于，

所述第1群组的处理部还包括也属于所述第2群组的处理部的第2共用处理部，

所述第2共用处理部的至少一部分在所述第1保持单元与所述第2保持单元之间的位置处重叠于所述第1共用处理部之上或之下。

6.根据权利要求1～5中任一项所述的基板处理装置，其特征在于，

所述基板出入部具有：

第1收容部和第2收容部，其在水平方向上配置于互不相同的位置；以及

基板分配部，其将所述第1状态的基板收容于所述第1收容部和所述第2收容部中的任一者，

所述第1输送部从所述第1收容部送出所述第1状态的基板，并向所述第1收容部送入所述第2状态的基板，

所述第2输送部从所述第2收容部送出所述第1状态的基板，并向所述第2收容部送入所述第2状态的基板。

7.根据权利要求6所述的基板处理装置，其特征在于，

所述基板分配部具有：

第1送入送出单元，其向所述第1收容部送入所述第1状态的基板，并从所述第1收容部送出所述第2状态的基板；以及

第2送入送出单元，其向所述第2收容部送入所述第1状态的基板，并从所述第2收容部送出所述第2状态的基板。

8.根据权利要求6所述的基板处理装置，其特征在于，

所述第1收容部包括进行所述第1状态的基板和所述第2状态的基板中的至少一者的检查的第1检查单元，

所述第2收容部包括进行所述第1状态的基板和所述第2状态的基板中的至少一者的检查的第2检查单元。