[发明专利]一种四甲基氢氧化铵生产的自清洗过滤器及其使用方法在审

专利信息
申请号: 202110495362.2 申请日: 2021-05-07
公开(公告)号: CN113198247A 公开(公告)日: 2021-08-03
发明(设计)人: 刘颂军 申请(专利权)人: 沧州信联化工有限公司
主分类号: B01D36/00 分类号: B01D36/00;B01D35/16;B01D61/00;B01D65/02;C07C211/63;C07C209/86
代理公司: 深圳至诚化育知识产权代理事务所(普通合伙) 44728 代理人: 刘英
地址: 061000 *** 国省代码: 河北;13
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摘要:
搜索关键词: 一种 甲基 氢氧化铵 生产 清洗 过滤器 及其 使用方法
【说明书】:

发明公开了一种四甲基氢氧化铵生产的自清洗过滤器及其使用方法,包括过滤装置罐体,所述过滤装置罐体下方一端贯通连接有锥形过滤罐底,所述锥形过滤罐底下方一端贯通连接有过滤罐出液口,所述过滤装置罐体上方一端贯通连接有清洗连接管,所述过滤装置罐体上方另一端贯通连接有过滤罐进液口;本发明中过滤罐进液口通过过滤罐清洗盘上开设的进液管通孔贯穿过滤罐清洗盘,在清洗时不仅能够对过滤装置罐体内部进行清洗,同时能够清洗到过滤罐进液口,能够有效提升清洗效果,通过设置锥形过滤罐底,较传统过滤罐平底,在过滤后能够有效防止四甲基氢氧化铵原料的残留,同时能够防止清洗后污水的残留,防止影响后续的过滤工作。

技术领域

本发明涉及四甲基氢氧化铵生产技术领域,具体是一种四甲基氢氧化铵生产的自清洗过滤器及其使用方法。

背景技术

四甲基氢氧化铵在工业领域有广泛的用途,如用于有机硅系列产品合成中的催化剂,聚酯类聚合,纺织、塑料制品与皮革等领域。目前,四甲基氢氧化铵被广泛应用于电子领域中,主要用作印刷电路板的光刻显影剂以及微电子芯片制造中的清洗剂等。

四甲基氢氧化铵在生产过程中需要使用到各种装置,其中包含有过滤装置,通过过滤装置,能够对四甲基氢氧化铵其内部的杂质进行过滤工作,从而提升四甲基氢氧化铵的纯度,但是目前的四甲基氢氧化铵的过滤装置在使用时无法过滤装置内部进行彻底的清洗。

发明内容

本发明的目的在于提供一种四甲基氢氧化铵生产的自清洗过滤器及其使用方法,以解决上述背景技术中提出的问题。

为实现上述目的,本发明提供如下技术方案:

一种四甲基氢氧化铵生产的自清洗过滤器及其使用方法,包括过滤装置罐体,所述过滤装置罐体下方一端贯通连接有锥形过滤罐底,所述锥形过滤罐底下方一端贯通连接有过滤罐出液口,所述过滤装置罐体上方一端贯通连接有清洗连接管,所述过滤装置罐体上方另一端贯通连接有过滤罐进液口,所述清洗连接管下方贯通连接有过滤罐清洗盘,所述过滤罐清洗盘一端开设有清洗喷口,所述过滤罐清洗盘另一端开设有进液管通孔。

作为本发明进一步的方案:所述过滤装置罐体内部设置有初滤层,所述初滤层为石英砂滤层。

作为本发明再进一步的方案:所述过滤装置罐体内部设置有中滤层,所述中滤层为活性炭滤层。

作为本发明再进一步的方案:所述过滤装置罐体内部设置有终滤层,所述终滤层为纳米膜滤层。

作为本发明再进一步的方案:所述锥形过滤罐底下方固定连接有过滤罐支架,所述过滤罐支架数量设置有多组,所述过滤装置罐体一端开设有废液排管。

作为本发明再进一步的方案:所述清洗连接管和所述过滤罐进液口均贯通所述过滤装置罐体。

作为本发明再进一步的方案:所述清洗喷口数量设置有多组,且多组清洗喷口均匀设置于所述过滤罐清洗盘一端。

作为本发明再进一步的方案:所述过滤罐进液口贯穿所述进液管通孔。

作为本发明再进一步的方案:所述初滤层、中滤层和终滤层位于所述过滤装置罐体内部自上而下依次设置。

作为本发明再进一步的方案,其使用方法为:过滤时在过滤罐进液口接入原料进液管,四甲基氢氧化铵原料由过滤罐进液口流入过滤装置罐体内部,经由初滤层、中滤层和终滤层依次过滤后,流入锥形过滤罐底内,最后由过滤罐出液口流出完成过滤,过滤的废液由废液排管排出,过滤完成后在清洗连接管上接入清洗液接管,清洗液由清洗连接管泵入过滤罐清洗盘内,后由过滤罐清洗盘上设置的清洗喷口喷出,对过滤装置罐体内部以及过滤罐进液口进行清洗,清洗后的污水穿过初滤层、中滤层和终滤层后流入锥形过滤罐底内,最后由过滤罐出液口流出完成清洗。

与现有技术相比,本发明的有益效果是:

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