[发明专利]集成射频测试压点的太赫兹单片电路结构及其设计方法有效
申请号: | 202110500062.9 | 申请日: | 2021-05-08 |
公开(公告)号: | CN113241309B | 公开(公告)日: | 2022-07-01 |
发明(设计)人: | 柳林;胡志富;何美林;何锐聪;刘亚男;彭志农;徐敏 | 申请(专利权)人: | 河北雄安太芯电子科技有限公司 |
主分类号: | H01L21/66 | 分类号: | H01L21/66;B07C5/344;G06F30/367;G06F30/392 |
代理公司: | 河北冀华知识产权代理有限公司 13151 | 代理人: | 王占华 |
地址: | 071000 河北省保定*** | 国省代码: | 河北;13 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 集成 射频 测试 赫兹 单片 电路 结构 及其 设计 方法 | ||
1.一种集成射频测试压点的太赫兹单片电路结构,其特征在于:包括衬底(1),所述衬底(1)包括太赫兹单片电路衬底以及在片探针结构衬底,所述太赫兹单片电路衬底的上表面形成有太赫兹单片电路(2), 所述太赫兹单片电路(2)的输入端以及输出端的微带线分别经一个中间射频测试压点(10)后与在片探针结构连接,所述中间射频测试压点(10)的两侧分别形成有一个侧面射频测试压点(11),所述侧面射频测试压点(11)通过金属化过孔与衬底背面的金属层连接,所述在片探针结构(3)上分别连接有输入波导接口以及输出波导接口(4);所述在片探针结构(3)包括位于在片探针结构衬底上表面的中间金属(5),所述中间金属(5)的一端与所述中间射频测试压点(10)连接,所述中间金属(5)的两侧分别形成有第一侧金属条(6)和第二侧金属条(7),所述中间金属(5)靠近外侧的一端形成有与其垂直的第一折弯部(5-1),所述第二侧金属条(7)靠近外侧的一端形成有与其垂直的第二折弯部(7-1),所述第一折弯部(5-1)与第二折弯部(7-1)的延伸方向相反,所述在片探针结构部分的衬底的背面形成有背面金属层(8),所述第一侧金属条(6)以及第二侧金属条(7)靠近内侧的一端通过金属化过孔(9)与所述背面金属层(8)连接,且所述金属化过孔(9)外侧的衬底部分没有背面金属层。
2.如权利要求1所述的集成射频测试压点的太赫兹单片电路结构,其特征在于:所述太赫兹单片电路衬底与在片探针结构衬底的厚度相等。
3.如权利要求1所述的集成射频测试压点的太赫兹单片电路结构,其特征在于:所述太赫兹单片电路为微带电路,所述微带电路的输入端微带线以及输出端微带线经中间射频测试压点(10)后与所述中间金属(5)连接。
4.如权利要求1所述的集成射频测试压点的太赫兹单片电路结构,其特征在于:所述太赫兹单片电路为共面波导电路,所述共面波导电路的输出端共面波导与输入端共面波导分别经中间射频测试压点(10)后与所述中间金属(5)连接,所述共面波导电路两侧的电路经侧面射频测试压点(11)后分别与第一侧金属条(6)以及第二侧金属条(7)连接,作为共面波导两边金属的一部分。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造