[发明专利]可促进铝熔体铺展的亲疏双效阵列涂层及其制备方法有效
| 申请号： | 202110500236.1 | 申请日： | 2021-05-08 |
| 公开（公告）号： | CN113235088B | 公开（公告）日： | 2022-07-19 |
| 发明（设计）人： | 张晋;白景元;张美林;杨大龙;李晓阳;范龙毅;杨洲;管仁国 | 申请（专利权）人： | 大连交通大学 |
| 主分类号： | C23C28/00 | 分类号： | C23C28/00;C23C4/08;C23C4/134;C23C24/00 |
| 代理公司： | 西安铭泽知识产权代理事务所(普通合伙) 61223 | 代理人： | 梁静 |
| 地址： | 116000 辽宁*** | 国省代码： | 辽宁;21 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 促进 铝熔体 铺展 亲疏 阵列 涂层 及其 制备 方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种可促进铝熔体铺展的亲疏双效阵列涂层的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：
提供基底；
在所述基底上修饰亲铝液涂层；
在所述亲铝液涂层上涂覆牺牲模板；
在所述牺牲模板上修饰疏铝液涂层；所述疏铝液涂层是由阵列排布的疏铝涂层单元组成；
将所述牺牲模板刻蚀后暴露出部分基底上层的亲铝液涂层，即在基底上获得所述亲疏双效阵列涂层；
所述亲铝液涂层为镀铬涂层；
所述牺牲模板为铝层；
所述疏铝涂层单元为TiO2涂层。
2.根据权利要求1所述的可促进铝熔体铺展的亲疏双效阵列涂层的制备方法，其特征在于，每个所述疏铝涂层单元的表面均为顶角是30～120°的等腰三角形。
3.根据权利要求2所述的可促进铝熔体铺展的亲疏双效阵列涂层的制备方法，其特征在于，相邻所述疏铝涂层单元间的距离为5～10mm。
4.根据权利要求1～3任一所述的可促进铝熔体铺展的亲疏双效阵列涂层的制备方法，其特征在于，所述基底为不锈钢板。
5.一种权利要求4所述的方法制得的可促进铝熔体铺展的亲疏双效阵列涂层。
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