[发明专利]制备附着式冷冻样品的装置及方法在审
申请号: | 202110504982.8 | 申请日: | 2021-05-10 |
公开(公告)号: | CN115406914A | 公开(公告)日: | 2022-11-29 |
发明(设计)人: | 丁玮 | 申请(专利权)人: | 中国科学院物理研究所 |
主分类号: | G01N23/04 | 分类号: | G01N23/04;G01N23/20058;G01N23/20008;G01N1/42 |
代理公司: | 北京市正见永申律师事务所 11497 | 代理人: | 黄小临;冯玉清 |
地址: | 100190 *** | 国省代码: | 北京;11 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 制备 附着 冷冻 样品 装置 方法 | ||
1.一种制备附着式冷冻样品的装置,包括:
冻样单元,用于提供样品冷冻操作的环境;
冷却单元,用于存储冷却液,并为所述冻样单元提供冷却液;
样品处理单元,设置在所述冻样单元内,用于对样品进行雾化处理;
样品承载单元,设置在所述冻样单元内,并与所述样品处理单元对应设置,包括用于盛放金属载网的金属基底,以及
管道单元,连接所述冻样单元和实施冷却单元,用于将冷却液从所述冷却单元引导至所述冻样单元。
2.根据权利要求1所述的装置,其中,还包括真空单元,与所述冻样单元连接,用于给冻样单元提供真空环境。
3.根据权利要求1所述的装置,其中,还包括样品保存单元,设置在所述冻样单元内,用于保存玻璃态后的样品。
4.根据权利要求1所述的装置,其中,所述样品处理单元包括恒温器件和雾化器,所述恒温器件为所述雾化器提供恒温环境。
5.根据权利要求1所述的装置,其中,所述金属基底是高热导率金属基底。
6.根据权利要求5所述的装置,其中,所述金属基底是紫铜基底。
7.一种附着式的冷冻方法,包括:
样品溶液置于样品处理单元内,金属载网置于金属基底上;
通过真空组件,对冻样单元进行真空处理;
冷却单元中的冷却液通过管道单元进入冻样单元内,对所述金属基底进行冷冻处理,所述金属载网与所述金属基底连接,利用金属导热性,冷却的金属基底将低温传至金属载网;
启动所述样品处理单元内的雾化器,对所述样品溶液进行雾化处理,形成液体微粒;
所述液体微粒附着在所述金属载网上进行冷冻,形成玻璃态薄膜。
8.根据权利要求7所述的方法,其中,对所述金属载网进行冷冻处理前,启动恒温器件,使得处于所述样品处理单元内的样品溶液在所述金属载网冷冻处理过程中处于恒温状态。
9.根据权利要求7所述的方法,其中,所述样品溶液置于所述样品处理单元内的所述雾化器内。
10.根据权利要求7所述的方法,还包括将所述玻璃态薄膜连同所述金属载网转移至样品保存单元。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院物理研究所,未经中国科学院物理研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202110504982.8/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种通信方法及装置
- 下一篇:文件处理方法及装置、电子设备及存储介质