[发明专利]一种气体过滤器在审
申请号: | 202110508752.9 | 申请日: | 2021-05-11 |
公开(公告)号: | CN113041746A | 公开(公告)日: | 2021-06-29 |
发明(设计)人: | 肖遥;陈永键;冯志杰;陈在坤;程伟 | 申请(专利权)人: | 厦门乾照光电股份有限公司 |
主分类号: | B01D46/24 | 分类号: | B01D46/24;B01D46/00;B01D46/42 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 361101 福建省厦门市厦门火*** | 国省代码: | 福建;35 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 气体 过滤器 | ||
本发明提供了一种气体过滤器,包括滤灌,滤灌包括顶部的上盖、中间串联的多级滤筒和底部的集尘盒,各多级滤筒的气体通道相连通;各多级滤筒内部均设有一个过滤装置,过滤装置底部设有开口,过滤装置顶部密闭滤芯空心排气通道的顶部;进气口、过滤装置底部开口、滤芯空心排气通道、滤芯的内壁滤网、滤芯外壁与各多级滤筒内壁之间的通道和出气口连通形成气体通道;本发明设有多级滤筒,可加大面积过滤尾气中的粉尘颗粒,避免粉尘颗粒残留于反应腔室和真空管道内造成堵塞;且过滤装置的过滤方向为滤芯的内壁滤网指向滤芯外壁,可避免清理腔体和更换滤芯时造成粉尘污染。
技术领域
本发明属于半导体技术领域,更为具体地说,涉及一种气体过滤器。
背景技术
MOCVD(英文为Metal Organic Chemical Vapor Deposition,金属有机化学气相沉积系统)进行氮化物LED薄膜结构生长时是以III族的金属有机化合物和V族元素的氢化物等为晶体生长源材料,在反应腔室内高温真空状态下进行气相外延,生长各种Ⅲ-V族化合物半导体以及它们的多元固溶体的薄层单晶材料。
因为MOCVD工艺所产生的尾气中含有易燃、易爆、毒性很大的物质,反应气体经反应腔室大部分热分解,但还有部分尚未完全分解,因此尾气中含有大量的粉尘颗粒沉积物和混合物。
现有的一些过滤器采用单级小尺寸滤筒进行简单过滤,过滤效果差,无法大面积的过滤MOCVD工艺尾气,尾气中的粉尘颗粒部分残留于反应腔室和真空管道内容易造成堵塞,且清理腔体时易导致粉尘污染;一般过滤器的气流方向由滤芯外部向滤芯内部流通,造成滤筒内壁和滤芯表面粉尘颗粒附着,更换滤芯过程中易造成二次脏污;目前的过滤器粉尘颗粒附着位置分散,无法集中回收,造成过滤器清理不便。
发明内容
有鉴于此,本发明提供一种气体过滤器,解决背景技术中现有过滤器过滤效果差易导致粉尘污染;更换滤芯过程中易造成二次脏污;粉尘颗粒附着位置分散,无法集中回收,造成过滤器清理不便等问题。
为实现上述目的,本发明采用的技术方案如下:
一种气体过滤器,包括滤灌,其特征在于:
所述滤灌包括顶部的上盖、中间串联的多级滤筒和底部的集尘盒,所述多级滤筒可拆卸的连接所述上盖和集尘盒,各所述多级滤筒的气体通道相连通;
各所述多级滤筒内部均设有一个过滤装置,所述过滤装置包括过滤装置底部、滤芯和过滤装置顶部,由固定装置固定;
所述滤芯包括圆环柱体过滤件,所述滤芯的上下圆环面为密闭面,滤芯的内壁滤网围成滤芯空心排气通道;
所述过滤装置底部设有开口,所述过滤装置顶部密闭所述滤芯空心排气通道的顶部;
所述滤灌还包括进气口和出气口;进气口、过滤装置底部开口、滤芯空心排气通道、滤芯的内壁滤网、滤芯外壁与各多级滤筒内壁之间的通道和出气口连通形成气体通道,且所述过滤装置的过滤方向为滤芯的内壁滤网指向滤芯外壁。
优选地,所述滤灌的壳体通过若干卡扣组件连接,各所述多级滤筒的壳体底部边缘设有水平向外延伸的内壁卡槽,且所述内壁卡槽设于所述卡扣组件的卡接范围内;所述过滤装置底部为所述多级滤筒的隔板,所述过滤装置底部开口为隔板排气口,隔板边缘放置于所述内壁卡槽内;所述过滤装置顶部为密封板。
优选地,所述隔板边缘设有隔板密封圈,所述隔板密封圈填满所述隔板边缘和所述内壁卡槽之间的空隙;隔板排气口直径(L1)小于滤芯外圆直径(L2)。
优选地,所述固定装置包括螺杆和螺帽,所述螺杆包括第一螺杆和第二螺杆,所述螺帽包括第一螺帽和第二螺帽,所述第二螺杆的尺寸大于第一螺杆的尺寸,所述第二螺帽的尺寸大于所述第一螺帽的尺寸。
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