[发明专利]一种双银LOW-E镀膜玻璃

说明书

本发明公开了一种双银LOW‑E镀膜玻璃，包括玻璃基材，所述玻璃基材的上表面由下而上依次设有SixNy基膜层、第一NiCr阻挡层、第一Ag层、第一ZnOx介质层、第二SixNy膜层、第二NiCr阻挡层、第二Ag层、第三NiCr阻挡层、第三SixNy膜层、以及ZrNx顶膜层。本发明提供的一种单银LOW‑E镀膜玻璃利用SixNy作为基膜层和ZrOx作为顶膜层，使膜层具有较好的粘结性和较佳机械强度,同时，利用AZO提高玻璃的透光率,本玻璃的透过率≥50％，辐射率≤0.04，可见光室外反射比小于15%，光学性能良好。

技术领域

本发明涉及玻璃制造技术技术领域，具体来说，涉及一种双银LOW-E镀膜玻璃。

背景技术

镀膜玻璃（Reflective glass）也称反射玻璃。镀膜玻璃是在玻璃表面涂镀一层或多层金属、合金或金属化合物薄膜，以改变玻璃的光学性能，满足某种特定要求。镀膜玻璃按产品的不同特性，可分为以下几类：热反射玻璃、低辐射玻璃（Low-E）、导电膜玻璃等，具有广阔的应用场景，因此提供一种新型的镀膜玻璃具有重要的意义。

发明内容

本发明的目的在于提供一种双银LOW-E镀膜玻璃，以解决上述背景技术中提出的问题。

为实现上述目的，本发明提供如下技术方案：一种双银LOW-E镀膜玻璃，包括玻璃基材，所述玻璃基材的上表面由下而上依次设有SixNy基膜层、第一NiCr阻挡层、第一Ag层、第一ZnOx介质层、第二SixNy膜层、第二NiCr阻挡层、第二Ag层、第三NiCr阻挡层、第三SixNy膜层、以及ZrNx顶膜层，各膜的材料依次为硅铝合金膜、镍铬合金膜、银膜、氧化锌膜、硅铝合金膜、镍铬合金膜、银膜、镍铬合金膜、硅铝合金膜和锆合金膜。

进一步的，所述SixNy基膜层的厚度为30～40nm，所述ZrNx顶膜层的厚度为10～15nm，所述第一NiCr阻挡层的厚度为2～5nm，第二NiCr阻挡层的厚度为1.7～5nm，第三NiCr阻挡层的厚度为1.6～5nm，所述第一Ag层和第二Ag层的厚度为6～12nm，所述第一ZnOx介质层厚度为15～20nm，所述第二SixNy膜层60～80nm和第三SixNy膜层为介质层厚度为30～50nm，所述SixNy基膜层、所述ZrNx顶膜层为保护层厚度为10～15nm。

与现有技术相比，本发明具有以下有益效果：

1、利用SixNy作为基膜层和ZrNx顶膜层，使膜层具有较好的粘结性和较佳机械强度；同时，利用ZnOx提高玻璃的透光率。

2、本玻璃透过率≥50％，辐射率≤0.04，可见光室外反射≤15，遮阳系数SC≤0.40；本玻璃颜色显蓝色，通过色度仪可以测得如下颜色坐标值：a*＝-1～-3，b*＝-25～-30，光学性能良好。

具体实施方式

下面，结合具体实施方式，对本发明做出进一步的描述：

根据本发明实施例的一种双银LOW-E镀膜玻璃,包括玻璃基材，所述玻璃基材的上表面由下而上依次设有SixNy基膜层、第一NiCr阻挡层、第一Ag层、第一ZnOx介质层、第二SixNy膜层、第二NiCr阻挡层、第二Ag层、第三NiCr阻挡层、第三SixNy膜层、以及ZrNx顶膜层。

根据本实施例的上述方案，所述SixNy基膜层的厚度为30～40nm。其采用磁控溅射镀膜工艺，用交流中频电源、氩气作为溅射气体、氮气作反应气体溅射硅铝靶(硅铝质量百分比92:8)制备而成，其中，氩氮比为(400SCCM～520SCCM)：(600SCCM～750SCCM)，氩氮比是该膜层的核心，决定了成膜的质量。

根据本实施例的上述方案，所述第一NiCr阻挡层的厚度为2～5nm。其采用磁控溅射镀膜工艺，用直流电源溅射镍铬合金、用氩气作为溅射气体制备而成,气体流量500～800SCCM。