[发明专利]喷墨印刷装置在审

专利信息
申请号: 202110514065.8 申请日: 2021-05-11
公开(公告)号: CN113682057A 公开(公告)日: 2021-11-23
发明(设计)人: 吉田英博;若林大介;木村悌一 申请(专利权)人: 松下知识产权经营株式会社
主分类号: B41J3/407 分类号: B41J3/407;B41J29/38;B41J2/01
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 刘文海
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 喷墨 印刷 装置
【说明书】:

喷墨印刷装置(100)具备:工作台;喷墨头,其相对于工作台相对移动;隔间(20),其覆盖工作台及喷墨头;以及气体环境控制装置,其对被隔间(20)覆盖的区域(21、22)的气体环境进行控制。由此,可以提供不使喷墨印刷装置(100)整体成为氮气气体环境或CDA气体环境就能够抑制材料的劣化的喷墨装置(100)。

技术领域

本发明涉及喷墨印刷装置。本发明尤其涉及用于向大型的对象物涂敷墨的喷墨印刷装置。

背景技术

以往,作为有机EL显示器的发光材料的形成方法,使用有蒸镀工法。蒸镀工法通过使用设置有与想要形成发光材料的像素区域对应的开口部的掩膜对材料进行加热来进行。在蒸镀工法中,由于材料附着于掩膜整体以及蒸镀腔室整体,因此材料的利用效率极低。另外,蒸镀工法由于利用掩膜,因此需要进行掩膜的更换等。因此,掩膜的运行成本价格变得高昂。

因此,近年来,从蒸镀工法向喷墨工法的置换正在进展。喷墨工法仅对需要的部位涂敷墨。因此,材料的利用效率格外提高。并且,也不需要在以往的蒸镀工法中使用的掩膜。

另外,喷墨工法可以形成任意图案。因此,也能够容易地应对有机EL显示器的机种的切换。另外,与蒸镀工法不同,喷墨工法不需要使用腔室。因此,能够抑制蒸镀工法的投资成本。

通常,有机EL显示器的像素部由阳极(Anode)、空穴传输层(Hole transportlayer)、空穴注入层(Hole injection layer)、发光层(Light emitting layer)、电子传输层(Electron transport layer)、电子注入层(Electron injection layer)、阴极(Cathode)以及密封材料层(Sealing material)构成。因此,近年来,利用喷墨工法来形成上述有机EL显示器的像素部中的任意层的措施正在积极地进行。

另外,不仅是构成有机EL的材料,作为下一代的器件,对于构成使用了量子点的自发光元件的材料,利用喷墨工法的形成也在被积极地研究。作为使用了量子点的自发光元件,例如有EL-QD(Electro luminescence Quantum dot)、作为波长转换材料使用的PL-QD(Photo luminescence Quantum dot)等。

构成上述有机EL或量子点的材料具有由于氧、臭氧以及水中的任一种、或者它们的组合而材料容易劣化这样的特性。

因此,例如国际公开第2017/047391号公报(以下,记为“专利文献1”)公开了能够防止材料的劣化并对它们进行印刷的喷墨印刷装置。专利文献1的喷墨印刷装置具备由氮气气体环境或清洁干燥空气(Clean dry air:CDA)环境包围喷墨印刷装置的结构。

也就是,由氮气气体环境或CDA气体环境包围喷墨印刷装置,从而抑制涂敷的材料的劣化。因此,在喷墨印刷装置中,它们的初期投资的成本价格变得高昂,并且氮或CDA的运行成本也变高。

发明内容

本发明提供一种不使装置整体成为理想的氮气气体环境或CDA气体环境就能够抑制材料的劣化的喷墨印刷装置。

本发明的喷墨印刷装置具备:工作台;喷墨头,其相对于工作台相对移动;隔间,其覆盖工作台及喷墨头;以及气体环境控制装置,其对被隔间覆盖的区域的气体环境进行控制。

根据本发明,可以提供不使装置整体成为理想的氮气气体环境或CDA气体环境就能够抑制材料的劣化的喷墨印刷装置。

附图说明

图1是示出实施方式1的喷墨印刷装置的结构的图。

图2是示出从实施方式1的喷墨印刷装置卸下了隔间的状态的图。

图3是示出图1的AA剖面的图。

图4是示出图1的BB剖面的图。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于松下知识产权经营株式会社,未经松下知识产权经营株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202110514065.8/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top