[发明专利]一种除去液氨中杂质离子的方法有效
申请号: | 202110515791.1 | 申请日: | 2021-05-12 |
公开(公告)号: | CN113213507B | 公开(公告)日: | 2022-06-17 |
发明(设计)人: | 王海;周黎旸;童继红;陈刚;贺辉龙;张学良;程文海;周涛涛;卢振成;蒋梁疏;赵晓亚 | 申请(专利权)人: | 浙江凯圣氟化学有限公司 |
主分类号: | C01C1/02 | 分类号: | C01C1/02 |
代理公司: | 义乌市宏创专利代理事务所(普通合伙) 33320 | 代理人: | 赵双 |
地址: | 324000 浙江省*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 除去 液氨中 杂质 离子 方法 | ||
本发明涉及化工领域,本发明公开了一种除去液氨中杂质离子的方法,包括吸附络合和精馏除杂两个步骤;使用了两种不同的络合剂,除杂效果更佳;本方法首先将一种改性MCM‑41分子筛加入到了液氨中,利用改性MCM‑41分子筛上的有机含N基团与的杂元素钙或硼形成配位有机化合物,进一步的硼元素可以和多羟基化合物络合,形成硼合多羟基配合物,使杂元素的沸点增加,最后使用精馏的方式将其与氨气有效分离,获得超纯氨水。本发明的改性MCM‑41分子筛具有比表面积大,含N基团多的特点,用于液氨杂元素的络合具有较高的络合效率,而且固载的含N基团没有挥发的隐患,不会影响超纯氨水的质量。
技术领域
本发明涉及化工领域,尤其是一种除去液氨中杂质离子的方法。
背景技术
超纯氨水是一种重要的电子化工材料,消耗量位居IC行业第三,主要用于晶圆的清洗与蚀刻。
CN101143728A涉及明一种超高纯氨水的生产工艺,包括以下工艺步骤:将液氨罐内的液氨输入缓冲罐;缓冲罐的氨气通入第一个清洗塔中;第一个清洗塔内的氨气进入第二个清洗塔内被去离子水吸收成氨水,并释放出比较纯的氨气;第二个清洗塔内的氨气进入第三个清洗塔内被去离子水吸收成氨水,并释放出纯度极高的氨气;第三个清洗塔纯度极高的氨气输入吸收塔后氨气被吸收塔内的去离子水大量的吸收;在超净环境内,用过滤器对出吸收塔的氨水进行过滤分装得到超高纯的氨水成品。该发明生产工艺简单、生产安全性好、产品纯度高、转换率高、生产成本低。
CN106315618B涉及种超净高纯氨水连续生产系统,包括顺次布置的液氨原料储罐、预洗塔、两级洗涤塔、两级吸收塔、换热器和尾气吸收塔及冷水机;两级吸收塔下方配置有两台吸收槽,分别与两级吸收塔通过带阀门的管路连接,第吸收槽和第二吸收槽通过连接管路上阀门的关闭或打开可实现同步或交替作业;两台吸收槽出料口再进步配置有循环泵和成品泵,循环泵的进口通过带阀门的管路分别与两台吸收槽连接,循环泵的出口通过带阀门的管路与换热器连接;成品泵的进口通过带阀门的管路分别与两台吸收槽连接,成品泵的出口通过带阀门的管路接管成品罐。
CN105523570A公开了一种PPT级超纯氨水的制备方法,包括依次且连续进行的如下步骤:汽化;净化过滤;树脂吸附;洗涤;水气分离;多级吸收;超滤。该方法所得的超纯氨水中,大于等于0.5μm颗粒浓度小于3p/ml,大于等于0.2μm颗粒浓度小于30 p/ml,单项金属离子含量小于30ppt,实测小于20ppt。该发明一种PPT级超纯氨水的制备方法,工艺流程简单,容易实现,其先通过合理的除杂工艺,得到纯净的氨气,再通过超纯水多级吸收得到ppt级超纯氨水,且该制备方法所用设备少,易于操作,生产成本低。
在半导体行业中,在纯净的半导体产品中掺入极微量的杂质元素,就会使产品的电阻率发生极大的变化,所以半导体行业对化学材料的纯净度要求极高。硼和钙元素能与氨形成配位键,导致液氨中硼和钙元素很难通过常规的蒸馏的方式除去。
发明内容
为了解决上述问题,本发明提供了一种除去液氨中杂质离子的方法。
一种除去液氨中杂质离子的方法,其方案为:
步骤一、吸附络合,将50-80份的液氨中加入0.5-5份的改性MCM-41分子筛,搅拌混合均匀,混匀吸附2-5h,
步骤二、精馏除杂,将吸附好的液氨导入到精馏塔中,精馏塔中的气化温度为23-26℃,压力为0.8-2MPa,精馏出的纯净氨气经由超纯水吸收后即可得到超纯氨水。
所述的改性MCM-41分子筛其制备方法为:
取100-120份MCM-41分子筛经300-400份硝酸在80-90℃条件下回流处理4-6h后,过滤,水洗,干燥,得活性处理后的MCM-41分子筛;
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