[发明专利]指纹传感器、其制造方法和包括指纹传感器的显示装置在审
申请号: | 202110517036.7 | 申请日: | 2021-05-12 |
公开(公告)号: | CN113690260A | 公开(公告)日: | 2021-11-23 |
发明(设计)人: | 林载翊;金智慧;兪炳汉 | 申请(专利权)人: | 三星显示有限公司 |
主分类号: | H01L27/146 | 分类号: | H01L27/146;G06K9/00 |
代理公司: | 北京铭硕知识产权代理有限公司 11286 | 代理人: | 韩芳;田野 |
地址: | 韩国京畿*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 指纹 传感器 制造 方法 包括 显示装置 | ||
1.一种指纹传感器,所述指纹传感器包括:
感光层,包括感光元件;以及
导光层,设置在所述感光层上,
其中,所述导光层包括:多个第一透光膜;阻光膜,设置在所述多个第一透光膜中的相邻的第一透光膜之间;以及第二透光膜,设置在所述多个第一透光膜中的每个与所述阻光膜之间。
2.根据权利要求1所述的指纹传感器,其中,所述多个第一透光膜中的每个的折射率等于所述第二透光膜的折射率。
3.根据权利要求1所述的指纹传感器,其中,所述多个第一透光膜中的每个的折射率比所述第二透光膜的折射率大。
4.根据权利要求2所述的指纹传感器,其中,所述多个第一透光膜中的每个是有机膜,并且所述第二透光膜是无机膜。
5.根据权利要求3所述的指纹传感器,其中,所述多个第一透光膜中的每个是有机膜,并且所述第二透光膜是无机膜。
6.根据权利要求1所述的指纹传感器,其中,所述第二透光膜设置在所述多个第一透光膜中的每个的上表面和侧表面上。
7.根据权利要求1所述的指纹传感器,其中,所述第二透光膜设置在所述阻光膜的下表面上。
8.根据权利要求1所述的指纹传感器,其中,所述多个第一透光膜中的一个在特定方向上的长度比所述阻光膜在所述特定方向上的长度大,所述阻光膜在另一特定方向上设置在所述多个第一透光膜中的相邻的第一透光膜之间。
9.根据权利要求6所述的指纹传感器,所述指纹传感器还包括:第三透光膜,设置在所述多个第一透光膜中的每个的上表面上且被所述第二透光膜覆盖。
10.根据权利要求9所述的指纹传感器,其中,所述多个第一透光膜中的每个的折射率等于所述第三透光膜的折射率。
11.根据权利要求9所述的指纹传感器,其中,所述多个第一透光膜中的每个的折射率比所述第三透光膜的折射率大。
12.根据权利要求9所述的指纹传感器,其中,所述第三透光膜由光致抗蚀剂或透明导电氧化物制成。
13.根据权利要求1所述的指纹传感器,其中,所述阻光膜的高度比所述多个第一透光膜中的每个的高度小。
14.根据权利要求13所述的指纹传感器,所述指纹传感器还包括:透明粘合构件,设置在所述阻光膜上且具有比所述多个第一透光膜中的每个的折射率大的折射率。
15.根据权利要求1所述的指纹传感器,所述指纹传感器还包括:滤色器,设置在所述第二透光膜和所述阻光膜上。
16.根据权利要求15所述的指纹传感器,其中,所述滤色器透射与绿光对应的波长带中的光,或者透射与所述绿光对应的所述波长带中的光以及与蓝光对应的波长带中的光。
17.一种制造指纹传感器的方法,所述方法包括以下步骤:
形成包括感光元件的感光层,在所述感光元件中感测电流响应于入射光而流动;
在所述感光层上形成有机材料以形成透光层;
在所述透光层上形成掩模图案;
根据所述掩模图案蚀刻所述透光层以形成多个第一透光膜;
去除所述掩模图案;
在所述第一透光膜上形成无机材料以形成第二透光膜;以及
在所述第二透光膜上形成有机材料以形成阻光膜。
18.根据权利要求17所述的方法,其中,在所述透光层上形成所述掩模图案的步骤包括:
在第一方向和与所述第一方向相交的第二方向上布置所述掩模图案。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的