[发明专利]净洗装置

权利要求书

1.一种净洗装置，其特征在于，包括等离子体发生器，所述等离子体发生器包括：

绝缘发生管(1)，包括管腔、与所述管腔连通的进气口(11)以及出气口(12)，所述出气口(12)适于插至盛有液体的净洗容器(6)中；

电离极(2)，至少部分设置在所述管腔内并与所述出气口(12)之间具有间距，且与所述管腔的腔壁之间具有流通间隙；

气泵(4)，与所述进气口(11)连接，适于向所述流通间隙内通入气体，所述电离极对所述气体进行电离。

2.根据权利要求1所述的净洗装置，其特征在于，所述绝缘发生管(1)还包括与所述管腔连通的插装口(13)，所述电离极(2)通过所述插装口(13)插至所述绝缘发生管(1)内；所述插装口(13)处设有绝缘密封件(9)。

3.根据权利要求2所述的净洗装置，其特征在于，所述插装口(13)和所述出气口(12)分别设置在所述绝缘发生管(1)的两端，所述进气口(11)设置在所述绝缘发生管(1)的侧部，所述绝缘密封件(9)设置在所述插装口(13)处的流通间隙内，并位于所述进气口(11)与所述插装口(13)之间。

4.根据权利要求1所述的净洗装置，其特征在于，所述电离极(2)靠近所述出气口(12)的一端与所述出气口(12)之间的间距为L，L≥5mm。

5.根据权利要求1-4中任一项所述的净洗装置，其特征在于，所述电离极(2)为圆柱状结构并与所述绝缘发生管(1)同轴设置。

6.根据权利要求5所述的净洗装置，其特征在于，所述流通间隙为l，0.5mm≤l≤2.5mm。

7.根据权利要求1-4、6中任一项所述的净洗装置，其特征在于，还包括由绝缘材料制成的支撑结构(8)，用于固定支撑所述等离子体发生器。

8.根据权利要求7所述的净洗装置，其特征在于，所述净洗装置还包括电源模块(3)，所述电源模块(3)与所述电离极(2)电连接；

所述支撑结构(8)包括：

第一支撑部(81)，所述电源模块(3)连接在所述第一支撑部(81)的上方；

第二支撑部(82)，一端与所述第一支撑部(81)连接，另一端朝远离所述第一支撑部(81)的方向延伸，所述气泵(4)设置在所述第二支撑部(82)上；

第三支撑部(83)，一端与所述第二支撑部(82)连接，另一端向远离所述第一支撑部(81)的方向延伸，所述绝缘发生管(1)连接在所述第三支撑部(83)上，且所述出气口(12)适于穿过所述第三支撑部(83)伸置所述净洗容器(6)内。

9.根据权利要求8所述的净洗装置，其特征在于，所述第二支撑部(82)为槽口朝向所述电源模块(3)的槽状结构，所述气泵(4)通过所述槽状结构的槽口可拆卸的连接在所述第二支撑部(82)上。

10.根据权利要求8或9所述的净洗装置，其特征在于，所述第三支撑部(83)上设有避让槽(831)，所述避让槽(831)的槽底上设有连接孔(832)，所述绝缘发生管(1)的出气口(12)通过所述连接孔(832)伸至所述第三支撑部(83)的下方。

11.根据权利要求10所述的净洗装置，其特征在于，所述避让槽(831)的槽底上设有避让口(833)及至少两个限位筋(834)，所述避让口(833)设置在靠近所述第二支撑部(82)的位置，所述限位筋(834)位于所述连接孔(832)与所述避让口(833)之间；

所述绝缘发生管(1)的侧部设有支管，所述进气口(11)设置在所述支管上；

所述限位筋(834)上设有限位槽(8341)，所述支管适于限位在靠近所述连接孔(832)的限位槽(8341)内；

导气管的一端与所述支管连接，另一端经所述限位槽(8341)穿过所述避让口(833)与所述气泵连接。

12.根据权利要求8-9、11中任一项所述的净洗装置，其特征在于，还包括接地平台(7)，所述净洗容器(6)和所述支撑结构(8)适于放置在所述接地平台(7)上。