[发明专利]一种中国风插画设计的方法及系统在审

专利信息
申请号: 202110519551.9 申请日: 2021-05-13
公开(公告)号: CN114627201A 公开(公告)日: 2022-06-14
发明(设计)人: 党雅洁 申请(专利权)人: 党雅洁
主分类号: G06T11/00 分类号: G06T11/00;G06V10/764;G06K9/62
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 450000 河南省郑州*** 国省代码: 河南;41
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摘要:
搜索关键词: 一种 国风 插画 设计 方法 系统
【权利要求书】:

1.一种中国风插画设计的方法,其特征在于,包括步骤:

使用若干个插画元素及前置插画设计单元,得到若干幅插画;

利用各个预估单元对各个幅插画进行预估,得到各个幅插画的各个要点预估指数,各个预估单元使用目标插画的各个预估要点构建;

使用各个幅插画的各个要点预估指数,得到各个幅插画的结构化预估指数;

使用各个幅插画的结构化预估指数,对所述前置插画设计单元的阈值进行改进,直到迭代后的前置插画设计单元生成的插画的各个要点预估指数有约束性,将迭代后的前置插画设计单元作为目标插画设计单元;

使用若干个插画元素及所述目标插画设计单元,得到若干幅目标插画。

2.使用权利要求1所述方法,其特征在于,所述预估要点包括:插画逻辑特征、寓意特征、整体逻辑特征及结构化特征。

3.使用权利要求2所述方法,其特征在于,对于插画逻辑特征预估要点,利用插画逻辑特征预估单元对各个幅插画进行预估指数,对任一幅插画,利用插画逻辑特征预估单元对所述任一幅插画进行预估指数具体为:

x(ke)=max(|qky(ke)-V|-0.25*Q,0)

其中,w表示所述任一幅插画,X1(w)表示所述任一幅插画w的插画逻辑特征预估指数,y表示所述任一幅插画w由y个元素组组成,ke表示第e个元素组,qky(ke)表示元素组ke在元素集合空间中出现的或然率,V表示qky(ke)在所述元素集合空间上的均值,Q表示qky(ke)在所述元素集合空间上的方差,x(ke)表示元素组ke的近似逻辑性取值,所述前置插画设计单元通过对元素集合空间中的插画进行学习得到。

4.使用权利要求2所述方法,其特征在于,对于寓意特征要点,利用寓意特征预估单元对各个幅插画进行预估指数,对任一幅插画,利用寓意特征预估单元对所述任一幅插画进行预估指数具体为:

其中,w表示所述任一幅插画,X2(w)表示所述任一幅插画w的寓意特征预估指数,y表示所述任一幅插画w由y个元素组组成,He为所述任一幅插画w中第e个元素组的元素,XVh表示第h个元素,DG(XVh)表示所述任一幅插画w中第h个元素的特别算数。

5.使用权利要求2所述方法,其特征在于,对于整体逻辑特征要点,利用整体逻辑特征预估单元对各个幅插画进行预估指数,对任一幅插画,利用整体逻辑特征预估单元对所述任一幅插画进行预估指数具体为:

YZ(k1:e-1,ke)=logqseq2seq(ke|k1:e-1)-etlogq ky(ke),

其中,w表示所述任一幅插画,X3(w)表示所述任一幅插画w的整体逻辑特征预估指数,y表示所述任一幅插画w由y个元素组组成,logq seq2seq(ke|k1:e-1)表示一个用来表征整画同时存在或然率的第一类参考数据库,et表示一个前置的超阈值,qky(ke)表示元素组ke在元素集合空间中出现的或然率。

6.使用权利要求2所述方法,其特征在于,对于结构化特征要点,利用结构化特征预估单元对各个幅插画进行预估指数,对任一幅插画,利用结构化特征预估单元对所述任一幅插画进行预估指数具体为:

其中,w表示所述任一幅插画,X4(w)表示所述任一幅插画w的结构化特征预估指数,qxvk(ad|w)表示基于元素集合空间构建的第一类分类器,ad的取值范围为1、2及3。

7.使用权利要求1所述方法,其特征在于,所述使用各个幅插画的各个要点预估指数,得到各个幅插画的结构化预估指数,具体包括:

其中,X(wz)表示第z幅插画的结构化预估指数,ade表示第e个预估要点的前置比值,Xe(we)表示第e个预估要点的预估指数。

8.一种中国风插画设计的系统,其特征在于,包括:

第一设计单元,用于使用若干个插画元素及前置插画设计单元,得到若干幅插画;

第二设计单元,用于利用各个预估单元对各个幅插画进行预估,得到各个幅插画的各个要点预估指数,各个预估单元使用目标插画的各个预估要点构建;

第三设计单元,用于使用各个幅插画的各个要点预估指数,得到各个幅插画的结构化预估指数;

第四设计单元,用于使用各个幅插画的结构化预估指数,对所述前置插画设计单元的阈值进行改进,直到迭代后的前置插画设计单元生成的插画的各个要点预估指数有约束性,将迭代后的前置插画设计单元作为目标插画设计单元;

第五设计单元,用于使用若干个插画元素及所述目标插画设计单元,得到若干幅目标插画。

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