[发明专利]一种抗光投影幕布在审
申请号: | 202110524572.X | 申请日: | 2021-05-13 |
公开(公告)号: | CN113109988A | 公开(公告)日: | 2021-07-13 |
发明(设计)人: | 高逸;刘飞 | 申请(专利权)人: | 深圳未来立体科技有限公司 |
主分类号: | G03B21/60 | 分类号: | G03B21/60;G03B21/604;G02B30/00 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 518115 广东省深圳*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 投影 幕布 | ||
1.一种抗光投影幕布,其特征在于,包括:
至少一预制结构块;
所述预制结构块至少包括:
第一光学结构层,所述第一光学结构层为空间结构层,所述空间结构层上设有多个彼此相接的凸块,所述凸块的各个表面及凸块之间的相接表面镀有反射膜且相互垂直,所述第一光学结构层用于将任意角度的入射光线沿原方向反射出去。
2.根据权利要求1所述的抗光投影幕布,其特征在于,所述预制结构块还包括第二光学结构层,用于对入射光线进行处理、所述第一光学结构层进行支撑或者保护。
3.根据权利要求2所述的抗光投影幕布,其特征在于,所述第二光学结构层为多层光学结构,包括:
一支撑层;
一介质保护层;
所述第一光学结构层设置在所述支撑层及介质保护层之间;
所述支撑层用于切合所述第一光学结构层,为所述预制结构块提供支撑作用,所述介质保护层用于防止所述第一光学结构层腐蚀及碰撞损坏。
4.根据权利要求3所述的抗光投影幕布,其特征在于,所述第二光学结构层还包括:
一光处理层;
所述光处理层设置在所述介质保护层与所述第一光学结构层之间,用于适当扩大出射光的视场角、柔化光线及均匀光强。
5.根据权利要求4所述的抗光投影幕布,其特征在于,所述第二光学结构层还包括:
一光学介质层;
所述光学介质层设置在所述第一光学结构层与光处理层之间,用于保持出射光线偏振状态。
6.根据权利要求5所述的抗光投影幕布,其特征在于,所述介质保护层为多层结构。
7.根据权利要求5所述的抗光投影幕布,其特征在于,所述光处理层为多层结构。
8.根据权利要求1-7任一所述的抗光投影幕布,其特征在于,所述抗光投影幕布包括多个预制结构块,通过将所述预制结构拼接,构成特定尺寸的所述抗光投影幕布。
9.根据权利要求8所述的抗光投影幕布,其特征在于,所述反射膜为金属反射膜。
10.根据权利要求9所述的抗光投影幕布,其特征在于,所述凸块为规则多面体,所述规则多面体侧面为正方形形状。
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